氮气／氨气的高压快脉冲放电光谱研究.pdfVIP

维普资讯 第21卷 ，第5期 光 谱 学 与 光 谱 分 析 vd．21．No．5．pp637·640 2001年 l0月 SDectIo·sc0Dvand }DectralAnalTsis October．200l 氮气 ／氨气的高压快脉冲放电光谱研究 刘征平，王培南’，杨炜东，郑家骠 ，李富铭 (复旦大学物理系 三柬材料改性 国家重点宴验室．上海 200443) 摘 要 本文测量了氯气、氮气及其混合气体的快脉冲放电等离子体的光谱，用光谱分析方法研究了等离子 体成分及其与气压和配比的关系，并讨论了在制备氯化物时使用氯、氨混合气体的有利之处。 主蠢词 快脉冲放电：光谱：氮气 ／氨气 中图分类号：0657．31 文献标识码：A 文章编号：1000—0593(2001)05—0637—04 下也能获得较多的原于态的氮，我们尝试在氮气中掺入氨气 引 言 进行放电：选择氨气 的原因在于氨气较易解离 ，且解离产物 中的氢还可以还原氧，这对于易氧化材料如铝，镓等的氮化物 氯化物由于具有许多特殊的物理性质 多年来一直是材 的合成是授有利的，已有一些科研小组报道了使用氨气放电 料科学十分关注的领域。近年来 ，由于科学家首先在理论上 合成氯化物的研究 ’‘。在本文中，我们采用光谱方法对氨 预言了卢G 的硬度能超过金刚石而使之成为一个新的研 气 氨气及其混合气体的脉冲放电等离子体进行了研究，分析 究热点。另一方面，在光电子材料方面，Ⅲ族氮化物 如GaN， 了放电等离子体的成分以及氮原子离子的含量随放电气压和 AIN等，由于具有较宽的直接能隙(3．4，6．28eV}、较高的热 氯／氨配比的变化情况。 导率和化学稳定性．因此成为短波长光电器件十分理想的选 择对象，也成为近年来迅速发展的研究领域= 在氮化物的合成和制备过程中，理论和实验分析都表明． 原子态的氨由于比分子态的氨具有更高的化学活性而在氮化 物的音成中起着主要作用。气体放电是获得原子态氟的 一个 很好的途径，因此，在合成氮化物的时候．人们采用了多种放 电方法 如微波放电 射频放电、直流辉光放电和弧光放电等 衡量放电在氮化物合成中的作用的一个重要参数就是放电等 离子体中的原子态氨的比例。我们在过去的工作中首先采用 rig．1 Schematicdiagram oftheexl~-imm talsetupfor 了快脉冲放电的方法成功地合成了纯度很高的氯化铝 “ 通 sdr0sc0p|cdj昭咖蚰 ofpIIbed瑚簧h 辞pl啪 过与空心阴极放电和直流辉光放电的比较，我们发现脉冲放 电更有利于氨气的解离 J，而且脉冲放电方法可以在几十帕 L 实 验 到几个大气压的很大气压范围和在几百伏到上万伏的电压范 围内进行 ，避免了其他放电方法中着火电压对气压和放电电 高压快脉冲放电及其光谱测量的实验装置如图 l所示 压的限制。同时，由于脉冲放电的平均功率很小，因此无需大 放电过程如下：5kV的直流高压电潦通过 3kn的电阻给电 功率的放电电潦便可达到极大的放电电流，对放电电流的要 容量为0014 的电容充电，当璩隙由高压触发脉冲击穿 求和成本均很低，特别适合于配合脉冲激光烧蚀进行材辩合 时 电容通过球隙放电，电容另一端储存的电能则通过真空室 成的研究。 内两电极间的气体放电释放。放电等离子体的辐射通过两块 在制备纳米材料的时候，材料合成的尺寸大