轰击能量对离子束辅助磁控溅射沉积Cr2N薄膜断裂韧性的影响.pdfVIP

第 15 卷第 10 期 中国有色金属学报 2005 年 10 月 Vol . 15 No . 10 The Chinese Journal of Nonferrous Metals Oct . 　2005 文章编号 : 1004 0609 (2005) 10 1520 06 轰击能量对离子束辅助磁控溅射沉积 CrN 薄膜 断裂韧性的影响① 1 , 2 1 1 2 1 田林海 , 宗瑞磊 , 朱晓东 , 唐 　宾 , 何家文 ( 1. 西安交通大学 金属材料强度国家重点实验室 , 西安 7 10049 ; 2 . 太原理工大学 表面工程研究所 , 太原 030024) ( ) ( ) 摘 　要 : 应用低能离子束辅助磁控溅射技术 IBA M S 沉积 CrN 薄膜 , 用场发射扫描电镜 F ESEM 、原子力显 ( ) 微镜 A FM 和 X 射线衍射表征薄膜的组织结构 , 讨论了轰击能量对 CrN 薄膜组织 、晶粒度以及硬度和断裂韧性 的影响 。结果表明: 随离子束辅助轰击能量的升高 , CrN 薄膜由粗大的柱状晶变为细小的晶粒 , 当轰击能量达到 1 200 V 时 , 薄膜呈现等轴晶结构 , 薄膜致密度增加 。F ESEM 得到的表面颗粒尺寸和 A FM 得到的粗糙度随轰击 能量升高呈现相同的变化趋势 , 这些表观大颗粒是由许多小的亚晶块聚集而成 。进一步用 X 射线衍射谱形分析表 明: 随轰击能量从 0 V 升高到 800 V 时 , 亚晶块的尺寸逐渐减小 ; 到 800 V 时 , 晶块尺寸约为 9 nm , 但当能量升到 1 200 V 时 , 晶块尺寸反而增大 , 这是由离子束辅助轰击导致的两种不同机制而引起的 , 一种是离子轰击导致的喷 丸碎化作用 , 而另一种为热效应引起的晶粒长大 ; 当轰击能量从 0 V 增加 800 V 时 , 薄膜的硬度和断裂韧性都显 著提高 , 与晶粒度的减小有关 ; 而到 1 200 V 时 , 晶粒度较未辅助略大 , 但却具有很高的硬度以及较高的断裂韧 性 , 说明硬度和断裂韧性的提高还与离子束轰击导致薄膜的致密化增加有关 。 关键词 : 离子轰击 ; 晶粒度 ; 硬度 ; 断裂韧性 中图分类号 : T G 174 . 44 文献标识码 : A Effect of ion bombardment on fracture toughness of CrN coatings deposited by ion beam assisted magnetron sputtering TIAN Linhai1 , 2 , ZON G Ruilei1 , ZHU Xiaodon g1 , TAN G Bin2 , H E J iawen1 ( 1. St at