不同方法制备的犜犪.pdfVIP

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2017-09-15 发布于重庆
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中国激光第卷第期　　　，３５１０Ｖｏｌ．３５Ｎｏ．１０　　年月，　２００８１０ＣＨＩＮＥＳＥＪＯＵＲＮＡＬＯＦＬＡＳＥＲＳＯｃｔｏｂｅｒ２００８文章编号：（）０２５８７０２５２００８１０１５９５０５　　不同方法制备的犜犪犗薄膜光学性能和２５激光损伤阈值的对比分析，，，，１２１２１２１２１１许程董洪成肖祁陵麻健勇晋云霞邵建达　　　　　　１２（中国科学院上海光学精密机械研究所，上海２０１８００；中国科学院研究生院，北京１０００３９）摘要采用电子束蒸发（）和离子束溅射（）制备了不同的薄膜，同时对电子束蒸发制备的薄膜进行ＥＢＥＩＢＳＴａＯ　２５了退火处理。研究了制备的薄膜的光学性能、激光损伤阈值（）、吸收、散射、粗糙度、微缺陷密度和杂ＴａＯＬＩＤＴ２５质含量。结果表明，退火可使电子束蒸发制备的薄膜的光学性能得到改善，接近离子束溅射的薄膜的光学性能。电子束蒸发制备的薄膜的损伤阈值较低的主要原因在于吸收大，微缺陷密度和杂质含量高，而与薄膜的散射和粗糙度关系不大。退火后薄膜的吸收和微缺陷密度都明显降低，损伤阈值得到提高。退火后的薄膜损伤阈值仍然低于溅射得到的薄膜损伤阈值是因为退火并不能降低膜内的杂质含量，因此选用高纯度的蒸发膜料和减少电子束蒸发过程中的污染有可能进一步提高薄膜的损伤阈值。关键词薄膜；激光损伤阈值；吸收；退火　中图分类号文献标识码：／Ｏ４８４Ａ犱狅犻１０．３７８８ＣＪ１５９５　　　　　　　　犗狋犻犮犪犾犘狉狅犲狉狋犻犲狊犪狀犱犔犪狊犲狉犐狀犱狌犮犲犱犇犪犿犪犲犜犺狉犲狊犺狅犾犱狅犳狆狆犵犜犪犗犉犻犾犿狊犇犲狅狊犻狋犲犱犫犇犻犳犳犲狉犲狀狋犕犲狋犺狅犱狊２５狆狔，，，ＸｕＣｈｅｎ１２ＤｏｎＨｏｎｃｈｅｎ１２ＸｉａｏＱｉｌｉｎ１２