乙炔催化裂制备碳纳米带及其结构表征.pdfVIP

第 20卷 　第 4 期 新 　型 　炭 　材 　料 Vo l. 20　No. 4 　 2005年 12 月 N EW CARBON MA TER IAL S D ec. 2005 　 文章编号 : ( 2005) 乙炔催化裂解制备碳纳米带及其结构表征 郑瑞廷 , 　程国安 , 　赵 　勇, 　刘华平 , 　梁昌林 (北京师范大学材料科学与工程系 射线束技术与材料改性教育部重点实验室 , 北京市辐射中心, 北京 　100875) ( ) 摘 　要 : 　以乙炔 C H 为碳源 ,铁为催化剂 , 通过化学气相沉积技术在单晶硅衬底上制备了碳纳米带 。采用场 2 2 发射 SEM 、TEM 、激光 R am an 光谱等先进分析手段对其形态和结构进行了表征 。研究发现 :碳纳米带是一种准二 μ ( ) 维材料 , 厚度约 30nm , 宽度在几百纳米 ,长度在 100 m 量级 。碳纳米带的碳层沿着与其生长轴方向一致的 002 晶向排列 ,碳层的边缘都弯曲折叠成封闭结构 。碳纳米带中碳层的排列不很平直 , 其中存在大量的层错 。由此认 为碳纳米带可用于能源等领域 。 关键词 : 　化学气相沉积; 碳纳米带; 微观结构 关键词 : 　TB 383 文献标识码 : 　A 1　前言 本研究利用 CVD 法 , 以铁为催化剂 , 乙炔为碳 源 ,通过催化裂解在单晶硅衬底上制备出了碳纳米 自 1985年 H. W . K ro to[ 1 ] 发现碳的又一种新的 带薄膜 ,对碳纳米带的结构和形态进行了系统地研 同素异形体 —富勒烯 , 199 1年 日本 N EC 公司电镜 究, 并对其可能的应用进行了探讨 。 专家 S. Iij im a[ 2 ] 发现了碳纳米管以来 , 在全世界掀 起了一股碳纳米材料研究热 。通过热解有机化合物 2　实验 所获碳沉积物的形态多种多样 , 有薄片状 、盘状 、管 采用 n 型硅 〈111 〉晶 向抛 光 片 ( 电阻率 为 状 、尖锥状 、球状以及蚯蚓状等 。目前已有大量的文 [ 312 ] 4 Ω ·cm ～4. 8 Ω ·cm )为衬底 。硅片经超声波振荡 献 对于这些炭材料的形态 、结构和形成机制进 清洗后 , 利用磁过滤 M EVVA 源弧离子镀设备 , 在 行了报道 , 其中以碳纳米管为最 。但是对于碳纳米 硅片表面上沉积一层 5 nm 的铁作为催化剂 。沉积 ( ) 带 C arbon nano ribbon s 这样具有新颖结构的炭材 铁之前 , 先对硅表面进行离子轰击以清洁表面 。碳 料的相关报道和研究则很少 。在 20 世纪 70 年代 , [ 13 ] 纳米带的生长在 ZKL 2F 型 自动控温扩散炉中进 H. P. B oenm 以 Fe ( CO ) 5 为前驱 , 通过催化裂解