磁控溅射制备多孔柱状晶ZrO2薄膜.pdfVIP

第43卷第2期 中 国 种孥 箍 求 大 誊 孽 旅 V01．43，No．2 2013年2月 JOU尉蛆LOFUNIVERSIlYOFSCIENCEANDTECHNOLOGYOFCHlNA Feb．2013 文章编号：0253—2778(2013)02一0143一08 磁控溅射制备多孔柱状晶Zr02薄膜 宁珍珍，余传杰，李 明，谢 斌 (中国科学技术大学合肥微尺度物质科学国家实验室，安徽合肥230026) 摘要：采用反应磁控溅射倾斜沉积(GLAD)的方法制备了多孔柱状晶的Zr02薄膜，研究了不同沉 积角和靶基距对薄膜结构和光学性质的影响．结果表明，倾斜沉积的Zr02薄膜具有倾斜的柱状结 rim．沉积角大小的改变在一定 构，柱状晶之间存在空隙(宽度小于100nm)，平均晶粒大小约为10 程度上可以改变Zr02薄膜中某些晶粒的取向．增大沉积角和增加靶基距均可使薄膜的折射率减 小、孔隙率增大、沉积速率减小，不同的是增大沉积角会增大柱状倾斜角，而增加靶基距会减小柱状 倾斜角．沉积角为75。时可制备出折射率为1．56、孔隙率为41．7％的Zr02薄膜． 关键词：多孔柱状晶；Zroz薄膜；倾斜沉积；磁控溅射 中图分类号：0484 文献标识码：A of columnar andcharacterization Zhenzhen，Yu Ming，eta1．Preparation nanoporous 引用格式：Ning Chuanjie，Li reactive of ofScienceand of Z如filmsby magnetronsputtering[J]．JournalUniversity Technology China，2013，43(2)：143-150． 宁珍珍，余传杰，李明，等．磁控溅射制备多孔柱状晶Zr02薄膜[J]．中国科学技术大学学报，2013， 43(2)：143—150． andcharacterizationof columnarfilms Preparation nanoporousZr02 reactive sputtering by magnetron NINGZhenzhen，YU Bin Chuanjie，LIMing，XIE Science 230026，China) atMicroscale，UniversityofScienceandTechnologyofChina，Hefei (HefeiNationalLaboratoryforPhysical columnarfilmswere reactive ZrOz by magnetronsputteringusingglancing Abstract：Nanoporous deposited influenceso