沉积电位对ZnO薄膜结构及光电性能的影响.pdfVIP

20t3年3月 安徽大学学报(自然科学版) March2013 JournalofAnhui Science V01．37No．2 第37卷第2期 Edition) University(Natural doi：10．3969／j．issn．1000-2162．2013．02．009 沉积电位对ZnO薄膜结构及光电性能的影响 孙兆奇，徐 凯，杨 蕾，石市委，张 苗，宋学萍 (安徽大学物理与材料科学学院，安徽合肥230039) 摘要：以硝酸锌溶液为电解液，采用电化学沉积方法，在导电玻璃(ITO)上制备ZnO薄膜．使用x射线衍射 仪、扫描电子显微镜对制备的ZnO薄膜结构和形貌进行表征，并研究薄膜的光电性能．结果表明，通过该方法 制备的ZnO具有标准的六方纤锌矿纳米柱状结构，沉积电位为一0．75、一0．80、一0．85V时，制备的ZnO纳米柱 的直径分别为250、400、500n