黄光激光器聚光元件减反膜的研究.pdfVIP

第36卷第5期 长春理工大学学报 （自然科学版） Vol.36 No.5 2013年10月 Journal of Changchun University of Science and Technology （Natural Science Edition ） Oct.2013 黄光激光器聚光元件减反膜的研究 1 1 2 付秀华 ，麻晓丹 ，文大化 （1.长春理工大学 光电工程学院，长春 130022；2.中国科学院 长春光学精密机械与物理研究所 长春 130033） 摘 要：为满足589nm黄光激光器聚光元件双波段减反膜的使用要求，根据有效界面法设计原理设计膜系，以TaO 和 2 5 SiO2为镀膜材料，使用TFC膜系设计软件对膜系进行优化，运用电子束蒸发方法和离子束辅助沉积方法，在零膨胀玻璃上 镀制589nm反射率在2%~3%之间、1064nm反射率小于1%的双波段减反膜，通过膜系结构和工艺参数的优化解决了589nm 反射率在2%~3%之间难以控制的问题，获得了符合聚光元件使用要求的减反射薄膜。 关键词：黄光激光器；双波段减反膜；离子束辅助沉积；有效界面法 中图分类号： O484 文献标识码：A 文章编号：1672-9870（2013）05-0007-04 Research on the Anti-reflection Coating Applied to Condensing Element of Yellow Lasers FUXiuhua ，MAXiaodan ，WENDahua1 1 2 （1.SchoolofOpticsandElectricEngineering，ChangchunUniversityofScienceandTechnology，Changchun130022； 2.ChangchunInstituteofOptics，FineMechanicsandPhysics，ChineseAcademyofSciences，Changchun130033） Abstract：To meet the requirements of dual band antireflection coating which is applied to condensing element of yel- low lasers，film is designed by effective interface method design principle；TaO and SiO as coating materials are cho- 2 5 2 sen；film is optimized by TFC film design software，with the aid of ion assistant deposition systems on zero-expansion glass electronic beaming vacuum depositing method is adopted .This dual band antireflection coating requires reflectivity between 2%~3% at 589 nm and less than 1% at 1064 nm. The problem of reflectivity uncontrolled between 2%~3% at 589 nm is solved by optimizing membrane system structure and technological