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第 卷 第 期 机 械 工 程 材 料
34 9 Vol.34 No.9
年 月
2010 9 Se. 2010
Materials for MechanicalEnineerin p
g g
退火温度对 / 膜结晶特性及力学性能的影响
犖犻犜犻犛犻
王玉雷,李子全,刘劲松
(南京航空航天大学材料科学与技术学院,南京 210016)
摘 要:采用射频磁控溅射法在 膜表面沉积一层非晶硅膜而形成 / 膜,并对该膜进
NiTi NiTiSi
行了不同温度的退火处理;用 、 和纳米压痕仪研究了退火温度对 / 膜的结晶特性
XRDSEM NiTiSi
和力学性能的影响。结果表明: / 膜在 下退火后其中的硅仍为非晶态;当退火温度在
NiTiSi 600℃
650℃后开始出现明显的结晶硅衍射峰,且随着温度升高,硅的结晶度增大,晶粒逐渐长大;而该膜
的硬度和抗压痕蠕变能力逐渐降低;该膜弹性模量在650℃退火后最大。
关键词:退火; / 膜;结晶特性;力学性能
NiTiSi
中图分类号: 文献标志码: 文章编号: ( )
TN304.8 A 10003738201009002003
犈犳犳犲犮狋狅犳犃狀狀犲犪犾犻狀 犜犲犿 犲狉犪狋狌狉犲狅狀犆狉狊狋犪犾犾犻狕犪狋犻狅狀犆犺犪狉犪犮狋犲狉犻狊狋犻犮狊犪狀犱
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ColleeofMaterialScienceandTechnolo Nanin UniversitofAeronauticsandAs
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