溅射功率对金属锰膜光学性质的影响.pdfVIP

物理学报 Acta Phys. Sin. Vol. 62, No. 24 (2013) 247803 溅射功率对金属锰膜光学性质的影响* † 唐华杰 张晋敏 金浩 邵飞 胡维前 谢泉 ( 贵州大学电子信息学院, 贵州大学新型光电子材料与技术研究所, 贵阳 550025 ) ( 2013 年9 月3 日收到; 2013 年9 月28 日收到修改稿) 采用磁控溅射方法在Si(111) 基片上制备金属锰膜, 用椭圆偏振光谱在入射光子能量为2.0—4.0 eV 范围内研究 了溅射功率对薄膜光学性质的影响. 利用德鲁得- 洛伦兹色散模型对椭偏数据进行拟合, 结果表明在测量范围内随 溅射功率增加薄膜的折射率减小; 消光系数随入射光子能量增加先增加后减小, 在3.0 eV 附近处出现极大值, 并且 极大值所处的位置随溅射功率增加而向低能方向移动, 这主要与溅射沉积的锰薄膜的质量有关, 且随溅射功率的增 加薄膜的消光系数逐渐趋近于金属锰的数值. 研究结果还表