SiO2Cu复合粉体的制备与性能表征一、实验目的.docxVIP

SiO2Cu复合粉体的制备与性能表征一、实验目的.docx

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SiO2/Cu复合粉体的制备与性能表征一、实验目的1、制备出铜包覆的二氧化硅粉体2、对复合粉体的光学性能,介电性能进行测试二、实验原理本实验的原理是Cu2O在酸性溶液中发生歧化反应[12],其基本反应过程为Cu2O+2H+==Cu+Cu2++H2O,反应过程中Cu以纳米SiO2为核结晶沉淀,从而形成铜包覆纳米二氧化硅复合分体。由反应式知,PH值越小,铜越容易生成,因此溶液的pH值是影响包覆效果的重要因素。分别选择pH=1~2和pH=3~4,在反应温度50℃下,制备铜包覆纳米二氧化硅复合粉体。得知反应体系的PH值影响铜对纳米二氧化硅的包覆效果,pH值过大不利于铜的形成;pH值过小,则易造成铜均相成核。这是由于PH3时,H+浓度过低,导致反应速度过慢,在反应时间内形成少量铜,因此铜对纳米二氧化硅颗粒的包覆不均匀,最终形成纳米二氧化硅颗粒之间的团聚体;pH2时,溶液中的H+浓度较大,Cu+歧化反应瞬间生成的铜浓度过大,铜在均匀包覆于纳米二氧化硅颗粒表面之前便迅速偏析团聚,单独形成铜颗粒,没有形成核-壳结构的复合粉体;pH=2~3时,铜的生成速度适中,能够逐渐在纳米二氧化硅表面沉积,聚集,从而实现铜对纳米二氧化硅颗粒的包覆。因此pH=2~3时,适宜铜包覆纳米二氧化硅复合粉体的制备。三、实验仪器及药品仪器:烧杯、量筒、玻璃棒等玻璃仪器、磁力搅拌器、水浴装置药品:氨水、无水乙醇、四乙酸正硅烷、氢氧化钠、硫酸、硫酸铜、葡萄糖四、实验步骤(一)二氧化硅的制备1. 配制溶液A:9 mL浓氨水+16.25 mL乙醇+ 24.75 mL水,置于烧瓶中,磁力搅拌。2. 配制溶液B:4.5 mL正硅酸乙酯(TEOS)+45.5 mL乙醇,混合均匀。3. 将溶液B快速加入A中,并尽量不要让溶液B接触瓶壁。4. 1 min后,将搅拌速度降低(一般是调到360 rpm或者400 rpm)5. 用保鲜膜封住反应烧瓶的口,继续反应2小时。6. 4000 r/min离心15分钟,用乙醇洗涤(超声),重复3次,60摄氏度干燥15h。7.马弗炉480℃灼烧2小时。(二)氧化亚铜的制备配制1 mol/L CuSO4 、1 mol/L C6H12O6溶液以及2.5 mol/L NaOH溶液各200 mL。将CuSO4溶液加入反应器,以500 rpm的速度搅拌,在室温下每隔10 min加入20 mL的NaOH溶液,待NaOH溶液加完后,继续搅拌15 min制得Cu(OH)2浆料,将浆料升温至80℃,然后将加热至相同温度的C6H12O6溶液加入反应器,以500 rpm的速度搅拌,恒温反应60 min, 制得Cu2O浆料;所得Cu2O浆料经离心分离(3000 rpm)后,用纯水洗涤5次,无水乙醇洗涤2次,最后65℃下鼓风干燥得到砖红色粉末状固体。(三)铜包覆二氧化硅复合粉体的制备实验方案一:在去离子水中加入0.5 g纳米SiO2以及2 mL非离子型表面活性剂PEG,在超声波作用下分散,制备分散良好的纳米SiO2悬浊液;将5 g Cu2O粉末置入烧杯,加入500 mL去离子水并将烧杯置于水浴锅中加热(50℃),同时在电动搅拌下使之充分分散,制成Cu2O悬浊液。然后把Cu2O悬浊液加入到纳米SiO2悬浊液中,同时用浓度为0.2 molL-1的稀硫酸缓慢调节pH 值至2~3,并控制反应溶液的温度为50℃,使反应在搅拌下进行30 min。将反应结束后得到的粉体沉淀静置陈化10 h,然后过滤、水洗、醇洗2遍,最后将沉淀物在60~80℃的干燥箱中干燥,得到Cu包覆纳米SiO2 复合粉体。实验中,制备二氧化硅悬浊液时分别使用100 mL、150 mL、200 mL去离子水为溶剂,并得到实验产品1号、2号、3号。实验方案二:配制0.35 molL-1 CuSO4、0.35 molL-1 C6H12O6 溶液以及0.8 molL-1 NaOH溶液各200 mL。 将CuSO4溶液加入反应器,以500rpm的速度搅拌,在室温下每隔10 min加入20 mL的NaOH溶液,待NaOH溶液加完后,继续搅拌15 min制得Cu(OH)2浆料,将浆料升温至80℃ ,然后将加热至相同温度的C6H12O6 溶液加入反应器,以500 rpm的速度搅拌,恒温反应60 min。降温至50℃,加入0.5 g二氧化硅和2 mL聚乙二醇。用0.2 molL-1的硫酸溶液调节pH到2-3,恒温反应30 min。将反应结束后得到的粉体沉淀,静置陈化10 h,然后过滤、水洗、醇洗2遍,最后将沉淀物在60~80℃的干燥箱中干燥,得到Cu包覆纳米SiO2 复合粉体。五、实验产品表征(一)二氧化硅经XRD分析(见图1)发现衍射峰出现在2θ=22°处,所得产品为非晶态二氧化硅。2θ/(o) 图1 二氧化硅粉体的XRD图谱采用扫描电镜分

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