ICP—CVD制备氟化非晶碳(a—C:F)薄膜的研究.pdfVIP

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  • 2017-09-13 发布于湖北
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ICP—CVD制备氟化非晶碳(a—C:F)薄膜的研究.pdf

第29卷 第 1期 真 空 科 学 与 技 术 学 报 2009年 1、2月 CHINESEJOURNALOFVACUUM SCIENCEANDTECHNOLOGY 61 ICP—CVD制备氟化非晶碳 (a—C:F)薄膜的研究 谷建东 , 李东明 冯志庆 牛金海 刘东平 (1.大连民族学院 光电子技术研究所 大连 116605;2.大连交通大学 机械工程学院 大连 116028) GrowthandCharacterizationofAmorphousFluorinatedCarbon FilmsbyInductivelyCoupledPlasmaChemicalVaporDeposition GuJiandong,一,LiDongming~,FengZhiqing,NiuJinhai,LiuDongping (1.InstituteofOptoelectronicTechnology,DalianNationalitiesUniversity,D

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