电子束辐照PET 薄膜制备有序多孔阵列高分子模板.docVIP

电子束辐照PET薄膜制备有序多孔阵列高分子模板 郝旭峰 周瑞敏 吴新锋 周菲 邓邦俊 费舜廷 （上海大学射线应用研究所 上海 201800） 摘要 本文用掩膜工艺电子束蚀刻技术产生具有潜影的聚酯（PET）薄膜，经强氧化液（浓硫酸与重铬酸钾的混合液）腐蚀，产生有序微米多孔阵列PET模板。讨论了辐照剂量、腐蚀时间以及腐蚀温度等因素对基膜蚀刻和腐蚀的影响结果表明随着辐照剂量、腐蚀温度和腐蚀时间的增加，PET基膜更易被腐蚀。IR、DSC测量结果表明:辐照导致化学键的断裂、非晶化转变，是导致辐照PET薄膜的腐蚀失重率增加的原因。用此方法制备了孔径大小一致的微米级有序多孔阵列PET模板。 关键词 模板、PET、掩膜、电子束蚀刻、腐蚀 中图分类号 O633.14 O571.33 Q691.2 前言痕迹刻蚀高分子膜是一种可以批量生产的，它由核裂变碎片或重离子加速器轰击高分子膜，经化学试剂腐蚀痕迹处的裂解分子，形成微/纳米孔道。通常这些孔呈圆柱形[1,2,3]，孔径一般为10 nm至数十μm（孔密度可达109/cm2）核径迹防伪技术核孔膜复合型医用敷料核裂变碎片或重离子轰击高分子膜孔道孔成无序状有的孔轴与膜面夹角可达30°，孔道交错现象，核裂变碎片或重离子我们用电子束辐照覆盖有多孔掩膜的PET薄膜，再强氧化剂腐蚀，得到机械性能优良和化学稳定的PET模板。通过机械和激光打孔法制备多孔掩膜，能控制孔