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第２４卷 第２期 无 机 材 料 学 报 Ｖｏｌ．２４，Ｎｏ．２
２００９年３月 ＪｏｕｒｎａｌｏｆＩｎｏｒｇａｎｉｃＭａｔｅｒｉａｌｓ Ｍａｒ．，２００９
文章编号：１０００３２４Ｘ（２００９）０２０２３４０５ ＤＯＩ：１０．３７２４／ＳＰ．Ｊ．１０７７．２００９．００２３４
ＣｕＯ／ＳｉＯ 复合薄膜的微观结构和发光特性分析
２
石锋，李玉国，孙钦军
（山东师范大学物理与电子科学学院，济南２５００１４）
摘 要：采用射频磁控共溅射法在硅衬底上沉积Ｃｕ／ＳｉＯ复合薄膜，然后在Ｎ保护下高温退火，再于空气中自然冷却氧
２ ２
化，制备出低维ＣｕＯ纳米结构，并对其微观结构和光致发光进行研究．退火温度为１１００℃时样品中主晶相为立方晶系的
ＣｕＯ（２００）晶面，薄膜样品表面出现纳米线状结构，表面组分主要包括Ｃｕ、Ｏ元素，冷却氧化形成ＣｕＯ／ＳｉＯ 复合薄膜．该
２
温度下退火后，光致发光谱中出现紫外光和紫光，这是由于复合薄膜中ＣｕＯ的导带底到Ｃｕ空穴缺陷能级的跃迁导致的．
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关 键 词：射频磁控共溅射法；ＣｕＯ／ＳｉＯ 复合薄膜；微观结构；光致发光特性
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中图分类号：Ｏ４８４ 文献标识码：Ａ n
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ＡｎａｌｙｓｉｓｔｏＭｉｃｒｏｓｔｒｕｃｔｕｒｅａｎｄＰｈｏｔｏＬｕｍｉｎｅｓｃｅｎｔＰｒｏｐｅｒｔｉｅｓ
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ｏｆＣｕＯ／ＳｉＯ ＣｏｍｐｏｓｉｔｅＴｈｉｎＦｉｌｍｓ
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ＳＨＩＦｅｎｇ，ＬＩＹｕＧｕｏ，ＳＵＮＱｉｎＪｕｎ
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（ＣｏｌｌｅｇｅｏｆＰｈｙｓｉｃｓａｎｄＥｌｅｃｔｒｏｎｉｃ，ＳｈａｎｄｏｎｇＮｏｒｍａｌＵｎｉｖｅｒｓｉｔｙ，Ｊｉｎａｎ２５００１４，Ｃｈｉｎａ）
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Ａｂｓｔｒａｃｔ：Ｃｕ／ＳｉＯｃｏｍｐｏｓｉｔｅｔｈｉｎｆｉｌｍｓｗｅｒｅｄｅｐｏｓｉｔｅｄｏｎｎｔｙｐｅＳｉ（１１１）ｓｕｂｓｔｒａｔｅｓｂｙｒａｄｉｏｆｒｅｑｕｅｎｃｙ
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（ＲＦ）ｍａｇｎｅｔｒｏｎｃｏｓｐｕｔｔｅｒｉｎｇｍｅｔｈｏｄ，ａｎｎｅａｌｅｄａｔｈｉｇｈｔｅｍｐｅｒａｔｕｒｅｉｎＮａｔｍｏｓｐｈｅｒｅ，ｔｈｅｎｃｏｏｌｉｎｇａｎｄｏｘ
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ｎｅｓｃｅｎｔｐｒｏｐｅｒｔ
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