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第26 卷 第9 期 无 机 材 料 学 报 Vol. 26 No. 9
2011 年9 月 Journal of Inorganic Materials Sep., 2011
文章编号: 1000-324X(2011)09-0993-05 DOI: 10.3724/SP.J.1077.2011.00993
钕掺杂 ZnO 薄膜的制备及抗凝血性能研究
黄展云, 罗 平, 陈弟虎
( 中山大学 物理科学与工程技术学院 光电材料与技术国家重点实验室, 广州 510275)
摘 要: 采用射频磁控溅射方法在硅(100)衬底上制备了不同含量元素钕(Nd)掺杂的氧化锌薄膜. XRD 分析表明, 所
有ZnO 薄膜都具有c 轴择优取向. 随着Nd 掺杂量的增加, (002)衍射峰的强度减弱, 颗粒的尺寸变小. 紫外－可见
光谱分析表明, 所有薄膜在可见光区的透过率超过85%, 随着Nd 掺杂量的增加, 光学带隙从3.30 eV 增加到3.40 eV.
用XPS 对薄膜的表面化学态进行表征, Nd 元素在ZnO 薄膜表面以Nd3+离子态存在. 用接触角测试薄膜表面的浸润
性, 并计算其表面能. 用血小板粘附实验研究不同含量Nd 掺杂ZnO 薄膜的血液相容性, 其结果表明稀土钕掺杂后
血小板的粘附数量和形变都较少, 稀土掺杂和疏水性的提高是改善氧化锌薄膜抗凝血性能的主要原因.
关 键 词: 氧化锌; 钕; 光电子能谱; 血液相容性
中图分类号: R318 文献标识码: A
Preparation and Hemocompatibility of Neodymium Incorporated Zinc Oxide
Thin Films
HUANG Zhan-Yun, LUO Ping, CHEN Di-Hu
(State Key Laboratory of Optoelectronic Materials and Technologies, Sun Yat-Sen University, Guangzhou 510275, China)
Abstract: Zinc oxide thin films doped with different neodymium (Nd) contents (1at%, 2at% and 3at%) were
grown on Si (100) substrates by radio frequency magnetron sputtering. X-ray diffraction (XRD) patterns show that
all of the ZnO thin films have highly preferred growth along c-axis direction. The intensity of (002) diffraction
peaks weakens and the gain size decreases with the increasing of Nd dopants. The optical transmittance of
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