Sub—100—nm特征尺寸研究及干法刻蚀技术的近代发展特点.pdfVIP

维普资讯 系统工程与电子技术 1989年第 8期 Sub一100一nm特征尺寸研究及干法 刻蚀技术的近代发展特点 ． 航空航天工业部二院二十三所 刘金声 摘要 微细加-~；tL术建立在 电子 、离子和 光子 的粒子能量 (桕理1和 引起的徽 化学反应 (化学) 的基础上。 固有的粒子微小尺寸 给 它 带 来 了惊人 的精细加工能 力。所谓大规模集成 电路厦声、光、 电、磁特种器件都∞缅收柏这种特珠而广：乏使 用的技术才得 以 出现和 发展 。这 包括 图奸j的 主生和 复印，单层和 多层，一 维和 多维 等工艺的推进 越来越细 的线宽尺寸给集成 电路和 嚣件性能及制造成拳带 来 了极 犬 的好处 ，因而追求 0．1m 以下 的尺 寸夸人们 发生 极 大* 趣 ，并 愿 投 几 相 当可观 的经 费。然而在微 米级不曹发生的现 象当达到 0．1m以下时蛊生 了。这不仅关系到制造 工艺流程 的配置，也关系到新 的器件原理 。表来的器件应如 何考虑所 出现 的新的效 应和如 何修 改原有 的设计理论 是个新 的课 题。本 文着重对此课 题进行论述。 收稿 日期：1989年 4月15日 l 一 一 些基本 问题 。并且，它们具有互补的特点， LS2lS22J 公式 (13)和 (14解决了按主对角线分子非奇 — 异块 (detA ≠O或detA：：≠0)的问题，丽公 — ∞ 。 。 J ． A A A3。 A 。 ：】一 j IJ j 式 (17)和 (18)则解决 了按次对角线分子非奇 比较式 (30)和 (21)易发现，它们具有完全相 异块 (detA：≠0或detA ，≠0)的问题 。 同的形式。做 以下对 换，亦 即 。一H 有趣的还有，这四个性质 良好、应用方 Ail++日m !】¨H2I和 i±+÷日：2，便可由一 便的分块矩阵求逆公式竟可从多端 日网络参 式求得另一式。对于式 (31)和 (24)，式 (32) 数的等效变换中获得。网络参数间的等效变 和 (26)，以及式 (33)和08)也 有 而样 的请 换关系是众多的，然而我们发现，所有 由其 况，故不赘述 它的变换关系推导出的分块矩阵求逆公式， 有趣 的是 ，利用文 中提出的四个分块矩 都与上述的四个公式中的菜一个具有相 同的 阵求道公式，恰好解决了矩阵分块分析 中的 形式 参 考 文 献 【1】 P．R．Adby，“Appliedcircu~tTheoy『：3e~strixandComputerMcth~,ds”，EllisHorwoodLimited，l980． 【2】 L．O．ChuaandP M ．Lin，℃‘omputer—AidedAnalysisofElectronicCircuits’，Prentice--Hal1．Engle- wood Cliff~．N ．J．1975． 【3】 [日]须田信莫等著，曹长修译， 《自动控制中的矩阵理论》，科学出版社，1979~。 f4】 杨燕 目f等． 《电子计算机应用教学 ，冶盒工皿出版社，l979年。 l5】 A R．Newton and A．L．Sa~qgiovan Vineentelli，“Rela；at~on-Bascd ElcctricalSimul撕on，IEEE Trails V(I1．CAD 3，No．4，l984． 维普资讯 主曩调 蚀刻，等离子体腐蚀，离子束加工，溅射