光化学合成缺位型α－9－硅钨杂多化合物及其性质研究.pdfVIP

第 30卷第6期 泰 山学 院 学 报 Vo1．3O N0．6 2008年 11月 JOURNALOFTAISHANUNIVERSITY NOV． 2o08 4E堂-41合 成 缺 位 型 OL一9一硅 钨 杂 多 化 △15=：i物 及 其 性 质 研 究 任春霞 ，李越湘 (1．泰山学院材料与化学工程系，山东泰安 271021；2．南昌大学理学院化学系，江西 南昌 330047) [摘 要] 利用光化学方法合成了一种硅钨杂多化合物．元素分析得到该杂多化合物的分子式为 Hl0SiW9O34·4H2O．通过uV—Vis，IR，XRD，TG—DTA和电化学等方法对化合物进行 了表征，并与H4SiWl2O40 杂多酸(记为SiW ：)和标准样品 —H∞SiW9O3 ·4H2O(记为 —HSiW )的性质进行比较研究，结果表明标题 化合物为理一H。0SiW。O，4·4H2O，是一种三缺位的、具有Keggin基本结构骨架的杂多化合物． [关键词] 缺位型9一硅钨杂多化合物；or一异构体；光化学合成 [中图分类号] O614．613 [文献标识码] A [文章编号] 1672—2590(2008)06—0072—07 Keggin结构的杂多阴离子通式可表示为[XM O柏] (x表示杂原子，一般为P,Si、Ge、As等，M表 示配原子，一般包括 Mo、w)，杂原子呈四面体配位，配原子呈八面体配位，3个共边八面体组成一个三 金属簇M0 共有四组三金属簇即l2个八面体，整个杂多阴离子结构是由l2个八面体围绕着一个中 心四面体通过共角连结而成．具有Td对称性的Keggin杂多阴离子是仅一异构体，其中的一个共边的M 0，，若绕三重轴转动,rr／3时，则得8一异构体 j．杂多酸的结构分为三级l2j：其中一级结构指多阴离子的 结构，表示多酸的组成元素和个数，以及他们之间的结合方式的骨架结构，即由1个呈四面体配位的杂 原子和12个呈八面体配位的配原子通过共角连结而成．三空位的 一型 1：9杂多阴离子Of—XW 0 一 衍生于Keggin结构阴离子，是由三个相邻的三金属簇中分别除去一个八面体而得到，具有 Keggin结构 的基本骨架 J．这种 1：9系列的杂多化合物由于其具有独特的合成规律和性质而引起人们关注． 该杂多化合物既具有酸性、氧化性等特殊性质，又具有配合物和金属氧化物的结构特征，既可作为 均相或多相催化剂，又可作为同时传递质子和电子的双功能催化剂，尤其前几年发现在小分子盐 自组 装成为杂多阴离子过程中，同时选择催化氧化烯烃形成环氧化合物反应 J，这诱人现象引起了多个领 域学者们的兴趣． Hervi~等人 在 1977年报道了直接由xO五和wO 制备 —XW 和B—XW。的方法，该方法至今一 直被采用 J．本文在采用uV—Vis吸收光谱对 l2一硅钨酸进行光催化放氢的反应液进行研究时发现有 一 种不同于 l2一硅钨酸的新的杂多化合物生成．将这种新的杂多化合物经过纯化后，采用多种表征手 段对该杂多化合物的性质和元素组成结构进行分析，并与按文献制备、经酸化处理后得到的样品 — H。SiW O， ·4H2O相比较，通过对比研究，证明了这种新的杂多化合物为O．／一H。SiW。O ·4H20， 是一种三缺位的具有 Keggin基本结构骨架的杂多化合物． 1 实验部分 1．1 试剂 硅钨酸(HSiW 0∞AR 国药集团化学试剂有限公司)；氯铂酸(H：PtC1 ·6H：0AR上海锦源精细 [收稿 日期]2008—09—27 [作者简介]任春霞(1976一)，女，山东郓城人，泰山学院材料与化学 I=程系讲师 第6期 任春霞等：光化学合成缺位型Ol一9一硅钨杂多化合物及其性质研究 73 化工厂)；实验中所用其余试剂均为分析纯． I．2 样品的表征 UV—Vis紫外可见分光光度仪 (13立 U3310型)测定样品的uV—Vis吸收光谱；FT—IR(b~IIR NICOLET5700美国)测定样品的红外光谱；X射线衍射仪 (D8ADVANCE型，德国Bruker公司，Cu石墨 单色器，