三氯氢硅制备工艺研究进展.pdf.pdfVIP

l INsIGHT圃{ 三氯氢硅制备工艺研究进展 ● 文 ／陈学记 东华工程科技股份有限公司 高纯多晶硅生产过程 中最重要 球多晶硅制备工厂超过9(~／o使用的是 硅粉或硅铁、硅铜作原料与HC 体反 的原料就是三氯氢硅(siHCl)，近年 这种工艺流程，而且这种工艺当前还在 应，可使用铜(Cu)或铁(Fe)基催化剂，反 来随着光伏产业得迅猛发展，SillCl 发展完善期，还将在未来相当长的时间 K／-~300～400~C和0．2～0．4MPa下进 的价格也相应地水涨船高，近几年的 内占据主流地位。改良西门子法经历了 行，主要反应式如下 ： 平均报价 已经超过8000元 ／t。由此可 几代的发展和优化，最近特别地集中在 Si+3HCl—SiHCl3+H2 (1) 见，如果多晶硅工厂通过外购而不是 Sillc13制备工艺上出现了3种不同的 Si+4HCl—SiCl4+2H2 (2) 自产Sm C1。，其成本是何其之大。若增 工艺流程 ：硅(Si)和氯化氢(HC1)低压 Si+2HC1一SiH2C12 (3) 加制备SillC1的工序，不仅可降低多 合成法、四氯化硅(siCl,)氢化转化法 其 中，(1)式为主反 应 ，(2)和(3) 晶硅生产成本，更重要的是，使整个多 (其中又有热氢化和冷氢化之分)和二 式为副反应。上述反应是放热反应， 晶硅生产实现闭环生产成为了可能。 氯二氢硅(Sillc12)转化法(其中有反 反应热为 141．8kJ／mol。升高温度 而且 ，SillC13制备工序可以根据其工 歧化法和气化流化之分)。这3种方法 有利于提高反应速率，但 同时会导 艺特点承担整个多晶硅生产的尾气回 各有侧重点，在我国各大多晶硅生产厂 致SiHCl的选择率(即在上述3个反 收再利用和少量废气的回收处理，基 都已分别各有采用，可视具体不同流程 应中，如果升高温度，主反应的比例 本实现最低成本和零污染。由此可见 来选择。 会下降，从而SiHCl的产量降低)下 SiHCl制备工艺对整个多晶硅生产的 降。通过优化反应温度，可明显提高 重要性。 一 SiHCI3制备工艺 SillC13的选择率，例如，在320℃和 当前，改 良西门子法制备太阳能 1．Si和ItCl低压合成工艺 0．35MPa条件下使硅与HCl反应， 级多晶硅是最普及的一种工艺流程，全 Si~~HClf目珏合成工艺是用冶金级 产物连续输出，siHCl的选择率就 葡和烈产业NO．52012阿 I ~ INSIGHT 会高达80％～88％，副产物主要包括 SiHC13的收率明显降低。Anderson等 国对能耗和环保要求的提高，加上生 二氯二氢硅 (Sill2Cl)、SiCl和氢气 在一个微型反应器中用不同级别的硅 产厂家进一步降低成本的要求，SiC1 (H)，其余是质量分数为 1％～2％的 作原料研究了上述反应 ，结果表明，冶 的转化利用被重视起来，新工艺也应 高聚物。