半导体光催化氧化的机理及实践应用.pdfVIP

维普资讯 鞍 山 师 范 学 院 学 报 JournalofAnshanNormalUniversity 2005-04．7(2)：35—40 半导体光催化氧化的机理及实践应用 智 勇 (大连尘远环保科技有限公司，辽宁 大连 116023) 摘 要 ：综述 了半导体光催化氧化法的基本原理 ，概括 了影响光催化氧化反应的各个因素及提高反应速率 的各种方法，介绍了应用该方法处理水污染物的研究现状，并对光催化氧化法的发展前景及研究方向作了 简单阐述． 关键词 ：光催化氧化 ；反应速率 ；水污染物 中图分类号：X一1 文献标识码 ：A 文章篇号 ：1008—2441(2005)02-0035-06 ThePrincipium andApplicationofPhotocatalytic OxidationW ithSemiconductors ZHIYong (DalianDust-AwayEnvironmentalProtectionCo．Izd，DalianLiaoning116023，China) Abstract：Inthispaper，theprin cipium ofphotocatalyticoxidationusingsemiconductorsissum— marized．Thefactorswhichaffectthephotocatalyticoxidationandhtemehtodswhichcanimprove thevelocityofreactionsarealsogeneralized．Onhteohterhand，theapplicationinpufi~ingpol— lutedwaterwithphotocatalyticoxidationon itsprospectivedevelopmentareintroduced． Keywords：Photocatalyticoxidation；Velocityofreaction；Contaminantionsinwater 光催化氧化作为一种新的环境净化技术正在受到广泛的关注．近年来 ，光催化氧化法在废水处理中 的应用更是取得了显著的研究成果．目前采用 的污水治理技术基本上都属于分离过程，如沉降、絮凝 、过 滤 、吸附、气提等．这类过程虽然具有工艺成熟、易于实现大规模工业化的优点，然而这些过程只是将污 染物分离或浓缩 ，或者只是将污染物从一相转移到另一相 ，并没有使污染物受到破坏而实现无害化，通 常不可避免地带来废料或二次污染．光催化氧化法与以上方法相 比具有如下一些优点l0J： (1)能达到使有害物质完全分解的目的． (2)可以在常温常压下工作 ，减少操作上的困难． (3)不需要大量消耗光以外的其它物质 ，可以降低能耗和原材料消耗． 以下介绍了光催化氧化技术及其研究现状 ，并对其应用和发展方向作 了预测． 1 半导体光催化氧化的机理 光催化氧化是以N型半导体的能带理论为基础的．N型半导体吸收了能量大于或等于带隙宽度的光 子后进人激发态，此时价带上的受激电子跃过禁带进人导带，同时在价带上形成光致空穴．以TiO：为例： TiO2+hv_ h +e一 光致空穴 h具有很强的捕获电子的能力，而导带上的光致电子 e一又具有很高的活性 ，在半导体表 面形成氧化还原体系．当半导体处于溶液中时 收稿 日期 ：2004—11—09 作者简介：智勇(1977一)，男 ，黑龙江拜泉人 ，大连尘远环保科技有限公司助理工程师 维普资讯 36