氟掺杂纳米TiO薄膜的低温制备及其光催化性能.pdfVIP

氟掺杂纳米TiO薄膜的低温制备及其光催化性能.pdf

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2010 Chinese Journal of Catalysis Vol. 31 No. 1 文章编号: 0253-9837(2010)01-0120-06 DOI : 10.3724/SP.J.1088.2010.90719 研究论文: 120~125 氟掺杂纳米 TiO 薄膜的低温制备及其光催化性能 2 陈艳敏, 钟 晶, 陈 锋, 张金龙 华东理工大学精细化工研究所, 结构可控先进功能材料及其制备教育部重点实验室 , 上海 200237 摘要: 以氟化铵为氟源, 采用水热法制得氟掺杂 TiO o 2 (FTO) 溶胶, 并通过浸渍提拉法在低温下制备了 FTO 薄膜. 其中在 120 C 下水热处理 10 h 所得的 TiO2 溶胶制备的薄膜均匀透明, 具有较高的光催化活性. 氟掺杂后的 TiO2 晶粒尺寸并未发生明显变化, 但薄膜的光催化活性显著升高. F/Ti 摩尔比为 0.01 时, FTO 薄膜的光催化活性最高, 比 TiO2 薄膜的活性升高了 23%. X 射线光电 子能谱结果表明, 氟掺杂 TiO2 中的氟离子存在晶格取代掺杂和表面化学吸附两种形式. 这两种氟离子的共同作用是 FTO 薄膜 光催化活性升高的主要原因. 关键词: 氟; 掺杂; 二氧化钛; 薄膜; 光催化; 罗丹明 B; 降解 中图分类号: O643 文献标识码: A Low-Temperature Preparation and Photocatalytic Performance of F-Doped Nanosized TiO2 Thin Film * CHEN Yanmin, ZHONG Jing, CHEN Feng , ZHANG Jinlong Key Laboratory for Advanced Materials and Institute of Fine Chemicals, East China University of Science and Technology, Shanghai 200237, China Abstract: F-doped TiO (FTO) sol was prepared using NH F as the fluorine precurs

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