脉冲偏压电弧离子镀TiΠTiN 纳米多层薄膜的结构与硬度.pdfVIP

第26 卷 　第6期 材　料　热　处　理　学　报 Vol . 2 6 　No . 6 20 0 5 年 　1 2 月 TRANSACTIONS OF MATERIALS AND HEAT TREATMENT December 2 0 0 5 脉冲偏压电弧离子镀 TiTiN 纳米多层薄膜的结构与硬度 1 李　谋 , 　李晓娜 50 材 　料 　热 　处 　理 　学 　报 第 26 卷 清洗后置于基片台上。溅射清洗后在每个选定的偏 压幅值下 ,用交替通入N2 气和 Ar 气的方法来分别在 试样上沉积 TiN 和 Ti , 第一层为 TiN ,15min 后改为 Ti ,再 05min 后又改回到 TiN ,如此交替进行 ,共沉积 41 层 ,最后一层仍为 TiN 。在各次实验中沉积总时间 均为 415min 。 此外作为对比 ,还分别用 600V 和 900V 的脉冲负 偏压沉积普通的单层 TiN 薄膜。 图3 　- 300V 偏压下沉积 TiTiN 多层薄膜断面 SEM 形貌 ( ) Fig3 　SEM micrograph showing the crosssection morphology 用岛津 X 射线衍射仪 XRD 分析薄膜的相结 of TiTiN multiayer film deposited by No. 2 technology ( ) 构 ;用JSM5600LV 型扫描电子显微镜 SEM 观测 Ti TiN 多层薄膜断面形貌 , 并测试单层厚度及总膜厚 ; 均在 100nm 以内,可以认为薄膜组织结构属于纳米多 用DMH2LS 型努氏显微硬度计测量薄膜硬度 ,载荷 层。随着脉冲偏压幅值的变化 ,多层膜厚及其单层厚 为 10g ,每个试样的硬度取 10 次测量结果的平均值。 度均存在不同程度的变化。当偏压幅值较低时 ,多层 薄膜相对较厚 ;随着偏压幅值的增加 , 多层薄膜的厚 2 　实验结果与讨论 度逐渐降低 ,这是由于随着脉冲偏压参数的增强 ,离 21 　多层薄膜结构与断面多层形貌 子在脉冲电场中获得的能量增大 ,从而对薄膜表面产 图2 为 - 300V 偏压工艺下沉积薄膜的 XRD 图 生更强的轰击和溅射效应所致。 谱 ,从图可以看出 ,薄膜由 Ti 和 TiN 两相组成 ,其中 表 1 　不同脉冲偏压工艺下的 TiTiN 多层膜单层厚度、 ( ) ( ) ( ) Ti 出现 100 、101 、 002 峰 ,而 TiN 的衍射峰包括 总膜厚、显微硬度及 TiN 层晶粒尺寸 ( ) ( ) ( ) ( ) ( ) 111 、200 、220 及 311 ,其中以 111 的衍射峰位