1053,527,351nm倍频分离膜的制备与性能研究.pdfVIP

　第 18 卷 　第 4 期 强 激 光 与 粒 子 束 Vol . 18 ,No . 4 　 　2006 年 4 月 H I GH PO W ER L A SER AND PA R T ICL E B EA M S Ap r . ,2006 　 文章编号 : 　100 14322 (2005) 1 053 , 527 ,351 nm 倍频分离膜的制备与性能研究 尚光强, 　占美琼 , 　贺洪波 , 　张伟丽 , 　邵建达 , 　范正修 ( 中国科学院 上海光学精密机械研究所 光学薄膜技术研究发展中心, 上海 20 1800) 　　摘 　要 : 　用电子束蒸发及光电极值监控技术在石英基底上沉积了三倍频分离膜 ,将部分样品置空气中于 250 ℃温度下进行 3 h 热退火处理 。然后用 L ambda900 分光光度计测量了样品的光谱性能 ;用表面热透镜技 术测量了样品的弱吸收值 ;用调 Q 脉冲激光装置测试了样品分别在 355 nm 和 1 064 nm 的抗激光损伤阈值 。 实验结果发现 ,样品的实验光谱性能良好 ,退火前后其光谱性能几乎没有发生温漂 ,说明薄膜的温度稳定性好 ; 同时弱吸收平均值从退火前的 1. 07 ×10 - 4 下降到退火后的 6 . 2 ×10 - 5 ,从而使对基频的抗激光损伤阈值提高 , 从 14 . 6 J / cm2 上升到 18. 8 J / cm2 ,但是三倍频阈值在退火后有显著降低 ,从 7 . 5 J / cm2 下降到 2 . 5 J / cm2 。 　　关键词 : 　三倍频分离膜 ; 　弱吸收 ; 　激光损伤阈值 ; 　电子束蒸发 　　中图分类号 : 　O484 　　　　文献标识码 : 　A ( ) [ 12 ] 　　随着惯性约束核聚变 ICF 技术的发展 , 人们进一步认识到利用短波长倍频高功率激光打靶的优越 性[34 ] , 它不仅可以大幅度提高靶对激光的吸收率 , 大大减少超热电子的影响 , 而且受激 Raman 散射和 Bril ( louin 散射等现象都将随激光波长变短而减弱 。目前世界上很多高功率固体激光装置都建立了三倍频 35 1 nm , 3ω) 系统 , 利用三倍频激光打靶取得很好的结果 。为了将高功率固体激光装置由基频光打靶升级到三倍 频光打靶 ,这就对光路系统中的光学薄膜元件提出了更高的要求 。其中三倍频分离膜是重要的光学元件之一 , 其光学性能和抗激光损伤阈值对整个系统的性能有重大的影响 。由于已处于紫外区 ,材料的本征吸收较大 ,要 满足整个系统的要求 ,必须有很低的吸收和散射损失 、高的激光损伤阈值及较好的光学稳定性 。 1 　膜系设计 　　三波长倍频分离膜要求在激光波长 35 1 nm 处高 反 ,527 nm 和 1 053 nm 处高透 ,具体要求为 : T35 1 0 . 5 % , T527 93 % , T1 053 96 % 。采用传统的长波通滤 光片的基础膜系来设计三波长倍频分离膜[ 5 ] ,其基本 形式为 ( ) N ( ) G/ H/ 2 L H/ 2 / A 1 其中: G 代表石英基底 ,A 为入射介质 , N 是重复周期 数 , H 与 L 分别代表光学厚度为四分之一中心波长的 高 、低折射率材料 , H 为 Hf O2