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3 1 12 材 料 热 处 理 学 报
第 卷 第 期 Vol . 3 1 No . 1 2
2 0 10 年 1 2 月 TRANSACTIONS OF MATERIALS AND HEAT TREATMENT December 2 0 1 0
磁控溅射阴极靶磁场分布的定量评价
1 ，2 1 1
高方圆 ， 李 光 ， 夏 原
(1. ， 100 190 ; 2. ， 100049 )
中国科学院力学研究所 北京 中国科学院研究生院 北京
: ， B R ，
摘 要 针对磁控溅射阴极靶磁场分布难以进行定量评价的问题 提出以磁场水平分量 的平行率 为量化指标 对磁场分
x k
; ， ， R
布状态进行评价的新方法 采用有限元方法 模拟分析了磁控溅射阴极靶结构参数对磁场分布的影响规律 并利用 对结构参
k
。 ， R ，
数的合理性进行了验证 结果表明 量化指标 可以有效地评价磁场分布的优劣 能够为磁场模拟及分析提供基础的科学判
k
据。
: ; ; ;
关键词 磁控溅射 磁场分布 结构参数 平行率
中图分类号:TB43 文献标志码:A 文章编号:1009 -6264 (20 10 )12 -0 153 -05
Quantitative evaluation for magnetic field distribution
of magnetron sputtering target
GAO Fang-yuan1 ，2 ， LI Guang1 ， XIA Yuan1
(1. Institute of Mechanics ，Chinese Academy of Science ，Beijing 100 190 ，China ;
2. Graduate University ，Chinese Academy of Science ，Beijing 100049 ，China)
Abstract :In order to quantitatively evaluate magnetic field distribution of magnetron sputtering
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