低聚表面活性剂——两亲分子表面活性的突破.pdfVIP

低聚表面活性剂——两亲分子表面活性的突破.pdf

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   日 用 化 学 工 业 第 2 期 专论与综述                                   Ch ina Surfactant D etergent Co sm etics 2000 年 4 月 专论与综述 低聚表面活性剂 两亲分子表面活性的突破 赵剑曦 (福州大学化学系, 福建 福州 350002) 摘要: Gem ini 表面活性剂将两个单链单头基普通表面活性剂在离子头基处通过化学键联接在一起, 从而阻抑了表 面活性剂有序聚集过程中的头基分离力, 极大地提高其表面活性。针对当前为提高表面活性而进行的大量尝试而言, Gem ini 表面活性剂是概念上的突破, 因而被誉为新一代的表面活性剂。由于这种特殊的分子结构, Gem ini 表面活性剂通 常生成比其单链单头基表面活性剂更低曲率的分子聚集体, 这造成 Gem ini 表面活性剂水溶液具有相当高的粘度。此外, Gem ini 表面活性剂在固液界面上也易形成低曲率的分子吸附聚集体。 关键词: 低聚表面活性剂; Gem ini; 联接基团; 高表面活性 ( ) 中图分类号: TQ 423   文献标识码:A    文章编号: 2000 ( ) ( )   表面活性剂由于分子不对称结构而产生的自组织 亲分 离 子的接近。表面活性剂分 离 子在自组织结 行为和降低水溶液表面张力的能力, 使其在科学研究 构中排列的平衡距离则是碳链间的疏水力和头基间静 和生产应用中都具有广泛的用途和重要的意义, 因而 电以及水化层综合斥力的作用结果。 探索具有高表面活性的新型表面活性剂一直是热门课 2 提高表面活性的传统途径 ( ) 题, 但迄今为止真正从概念意义上突破的探索并不多。 降低表面活性剂分 离 子亲水头基间的静电和水 本文介绍目前正引起世界上几个主要研究表面活性剂 化层斥力, 促使其在自组织结构中趋于更为紧密的排 小组高度兴趣的, 并被Ro sen 郑重誉为新一代表面活 列, 将有效地提高其表面活性, 例如: 当表面活性剂在 性剂的所谓低聚表面活性剂。 气液界面上疏松排列时, 由于界面上碳链的倾斜而产 ( ) 1 表面活性剂分子结构及其表面活性 生的若干亚甲基

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