AuNiCrTa薄膜生长的表面能和晶界能作用.pdfVIP

第36卷 第7期 稀有金属材料与工程 、，01．36．No．7 2007年 7月 RAREⅧTALNL狐RIALSANDEN(疆NEERⅡ叮G July2007 唐武1邓龙江1，徐可为2 (1．电子科技大学，四川成都610054) (2．西安交通大学，陕西西安710049) 根据不同的沉积温度探讨了薄膜表面粗糙化机制，从能量角度分析了薄膜晶粒生长的表面能和晶界能交互作用效果。 结果表明：磁控溅射的金属薄膜呈现柱状晶生长，随着沉积温度的升高，薄膜表面发生粗糙一光滑一粗糙的变化过程， 表面能和晶界能的交互作用效果是导致薄膜表面粗糙度变化的根本原因。 关键词：All／NiCr门ra；薄膜；表面粗糙度；表面能；晶界能 中图法分类号：TB43．1 文献标识码：A 文章编号：l002．185x(2007)07．1185．04 J_●-o■一 (50nm厚)、金(500nm