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- 2017-09-10 发布于湖北
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chapter 10 山东大学材料学院李丽编写 第八章 材料加工新技术及其原理 8.9 晶体生长技术 8.9.3 熔体生长 焰熔法:这个方法的原理是利用氢和氧燃烧的火焰产生高温,使材料粉末通过火焰撒下熔融,并落在一个结晶杆或籽晶的头部。由于火焰在炉内形成一定的温度梯度,粉料熔体落在一个结晶杆上就能结晶。 8.6 表面改性 8.6.3 化学气相沉积(CVD) 把含有构成薄膜元素的一种或几种化合物、单质气体供给基体,借助气相作用或在基体表面上的化学反应在基体上制得金属或化合物薄膜的方法。 主要包括常压化学气相沉积、低压化学气相沉积和兼有CVD和PVD两者特点的等离子化学气相沉积等。此外,还有有机金属化学气相沉积以及激光(电子束)化学气相沉积。 8.6 表面改性 CVD法制备薄膜的过程,可以分为下面几个主要的阶段: ①反应气体扩散至工件表面; ②反应气体分子被基材表面吸附; ③在基材表面发生化学反应; ④反应生成的气相副产物由基片表面脱离,被真空泵抽掉; ⑤在基片表面留下的固体反应产物在基片表面扩散、形核,形成薄膜。 8.6 表面改性 CVD设备示意图 CVD设备: 1.送气装置; 2.反应室; 3.加热装置; 4.排气装置 8.6 表面改性 化学气相沉积技术的分类 按化学反应的激活方式,可分
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