电解质等离子抛光液中硫酸铵含量的检测方法.pdfVIP

第２２卷　 第２期 材　 料　 科　 学　 与　 工　 艺 Ｖｏｌ??２２ Ｎｏ??２ ２０ １４年４月 ＭＡＴＥＲＩＡＬＳ ＳＣＩＥＮＣＥ ＆ ＴＥＣＨＮＯＬＯＧＹ Ａｐｒ． ２０１４ 电解质等离子抛光液中硫酸铵含量的检测方法 １，２ １ １ 王　 季 ，索来春 ，付宜利 （１．哈尔滨工业大学 机电工程学院，哈尔滨 １５０００１；２．江苏徐州工程机械研究院工程技术中心，徐州 ２２１００４） 摘　 要：电解质等离子抛光过程中受抛光产生的金属微粒的干扰，无法使用电导法对抛光液中硫酸铵的含量进行检测， 为了解决这一问题，基于实验提出了两种确定硫酸铵含量（质量分数）的方法．一种方法是利用抛光液中硫酸铵的含量低 于２．５％以后抛光的电流密度会明显下降的现象，定时检测抛光过程中电流值和抛光液温度，以确定是否需要补充硫酸 铵．另一种方法是通过实验得到一定抛光液温度下抛光量与硫酸铵消耗量的关系，再在抛光过程中记录抛光量计算抛光 液中硫酸铵含量的方法．研究发现，前一种方法应用更为简便，适用于一般工业生产；后一种方法适用于对抛光效果要求 更高的加工．经实验验证两种方法均具有可行性． 关键词：电解质等离子抛光；硫酸铵；质量分数；电流密度；抛光量 － － － 中图分类号：ＴＧ１７５ 文献标志码：Ａ 文章编号：１００５ ０２９９（２０１４）０２ ００３０ ０６ Ｄｅｔｅｃｔｉｎｇ ｔｈｅ ｍａｓｓ ｆｒａｃｔｉｏｎ ｏｆ ａｍｍｏｎｉｕｍ ｓｕｌｆａｔｅ ｉｎ ｐｏｌｉｓｈｉｎｇ ｓｏｌｕｔｉｏｎ ｉｎ ｅｌｅｃｔｒｏｌｙｓｉｓ ａｎｄ ｐｌａｓｍａ ｐｏｌｉｓｈｉｎｇ １，２ １ １ ＷＡＮＧＪｉ ，ＳＵＯ Ｌａｉｃｈｕｎ ，ＦＵ Ｙｉｌｉ （１． Ｓｃｈｏｏｌ ｏｆ Ｍｅｃｈａｔｒｏｎｉｃｓ Ｅｎｇｉｎｅｅｒｉｎｇ，Ｈａｒｂｉｎ Ｉｎｓｔｉｔｕｔｅ ｏｆ Ｔｅｃｈｎｏｌｏｇｙ，Ｈａｒｂｉｎ １５０００１，Ｃｈｉｎａ； ２． Ｅｎｇｉｎｅｅｒｉｎｇ Ｔｅｃｈｎｏｌｏｇｙ Ｃｅｎｔｅｒ，Ｊｉａｎｇｓｕ Ｘｕｚｈｏｕ Ｃｏｎｓｔｒｕｃｔｉｏｎ Ｍａｃｈｉｎｅｒｙ Ｒｅｓｅａｒｃｈ Ｉｎｓｔｉｔｕｔｅ，Ｘｕｚｈｏｕ ２２１００４，Ｃｈｉｎａ） Ａｂｓｔｒａｃｔ：Ｃｏｎｄｕｃｔｏｍｅｔｒｙ ｉｓ ｎｏｔ ａｖａｉｌａｂｌｅ ｉｎ ｄｅｔｅｃｔｉｎｇ ｔｈｅ ｍａｓｓ ｆｒａｃｔｉｏｎ ｏｆ ａｍｍｏｎｉｕｍ ｓｕｌｆａｔｅ ｉｎ ｐｏｌｉｓｈｉｎｇ ｓｏｌｕｔｉｏｎ ｉｎ ｅｌｅｃｔｒｏｌｙｓｉｓ ａｎｄ ｐｌａｓｍａ ｐｏｌｉｓｈｉｎｇ ｂｅｃａｕｓｅ ｏｆ ｔｈｅ ｉｎｔｅｒｆｅｒｅｎｃｅ ｏｆ ｔｈｅ ｍｅｔａｌｌｉｃ ｐａｒｔｉｃｌｅｓ ｐｒｏｄｕｃｅｄ ｉｎ ｔｈｅ ｐｏｌｉｓｈｉｎｇ．Ｔｏｓｏｌｖｅｔｈｅｐｒｏｂｌｅｍ，ｔｗｏｍｅｔｈｏｄｓｂａｓｅｄｏｎｅｘｐｅｒｉｍｅｎｔｔｏｄｅｔｅｃｔｔｈｅｍａｓｓｆｒａｃｔｉｏｎｏｆ ａｍｍｏｎｉｕｍ ｓｕｌｆａｔｅ ａｒｅ ｐｒｏｐｏｓｅｄ． Ｏｎｅ ｍｅｔｈｏｄ ｉｓ ｔｏ ｍｅａｓｕｒｅ ｔｈｅ ｃｕｒｒｅｎｔ ａｎｄ ｔｅｍｐｅｒａｔｕｒｅ ｏｆ ｔｈｅ ｐｏｌｉｓｈｉｎｇ ｓｏｌｕｔｉｏｎ ｔｏ ｄｅｔｅｒｍｉｎｅｗｈｅｔｈｅｒａｍｍｏｎｉｕｍｓｕｌｆａｔｅｎｅｅｄｔｏｂｅａｄｄｅｄ，ａｓｔｈｅｅｌｅｃｔｒｉｃｃｕｒｒｅｎｔｄｅｎｓｉｔｙ ｄｒｏｐｓｓｉｇｎｉｆｉｃａｎｔｌｙｗｈｅｎ ｔｈｅ ｍａｓｓｆｒａｃｔｉｏｎ ｉｓ ｌｅｓｓ ｔｈａｎ ２．５％． Ｔｈｅ ｏｔｈｅｒ ｍｅｔｈｏｄ