磁控溅射技术设计合成ZrN%2fWN和CrN%2fZrN纳米多层膜研究.pdf

中文摘要 摘 要 rf vacuum magnetronsputteringsystem)设计合成ZrN／WN纳米多层膜，利用非平 dual．cathodedcreactive 衡直流磁控双靶交替反应溅射技术(unbalanced magnetron sputtering 膜的机械性能，包括表面硬度、弹性模量以及薄膜与基底的附着力；还通过x射 微镜(sEM)等分析手段研究了薄膜的结构特征。揭示多层膜体系的结构和性能 以及工艺参数之间的相互关系，找出合成最佳多层膜的工艺，使多层膜体系的硬 度和附着力优于单质薄膜材料。 1．利甩超高真空射频磁控溅射技术设计合成ZrN／WN纳米多层膜。工艺参 数中，工作气压、氮分量、总调制周期和ZrN／WN的调制比对薄膜的晶体结构 总的工作气压为0．8Pa，～与N2气体流量的比例保持在5：1，总调制周期为 多元化。说明适当调节工艺参数有利于混合晶相的氮化物生成，这可能会影响多 层膜的机械性能。 有很好的周期性调制结构，界