吸附与离子交换--制药化工过程及设备.ppt

吸附质由流体主体传递至吸附剂颗粒的内表面并被吸附的过程可看成由下列三个过程串联而成。 (1)外扩散——吸附质由流体主体扩散至吸附剂颗粒的外表面。 (2)内扩散——吸附质由吸附剂颗粒的外表面沿其内部微孔扩散至吸附剂颗粒的内表面。 (3)表面吸附——扩散至吸附剂颗粒内的吸附质被内表面所吸附。 整个吸附传质过程的速率由上述三个串联过程的速率共同决定。 一般情况下，表面吸附速度很快，该过程几乎可在瞬间完成，因此整个吸附传质过程的速率主要由外扩散或内扩散来控制。 吸附速率可用单位质量的吸附剂在单位时间内所吸附的吸附质的量来表示。 在吸附过程中，若内扩散的传质速度很快，则传质阻力主要集中于外扩散，吸附过程为外扩散控制。 反之，若外扩散的传质速度很快，则传质阻力主要集中于内扩散，吸附过程为内扩散控制。 接触过滤式吸附过程一般在带有搅拌器的吸附槽中进行。操作时，首先将原料液加入吸附槽，然后在搅拌状态下加入吸附剂。在搅拌器的作用下，槽内液体呈强烈湍动状态，而吸附质则悬浮于溶液中。当吸附过程接近吸附平衡时，通过过滤装置将吸附剂从溶液中分离出来。接触过滤式吸附过程属间歇操作过程，常用于溶质的吸附能力很强，且溶液的浓度很低的吸附过程，以回收其中少量的溶解物质或除去某些杂质等。 固定床吸附过程是最为典型的吸附过程之一，在制药化工生产中有着广泛的应用。将颗粒状的吸附剂以一定的填充方式充满圆筒形容器，即构成固定床，如图10-6所示。操作时，含有吸附质的液体或气体以一定的流速流过吸附剂床层，进行动态吸附。当床层内的吸附剂接近或达到饱和时，吸附过程停止，随后对床层内的吸附剂进行再生，再生完成后，即可进行下一循环的吸附操作。可见，固定床吸附过程也是一种间歇操作过程。 当含吸附质的流体自上而下连续流过床层时，其中的吸附质被吸附剂所吸附。若吸附过程不存在传质阻力，则吸附速度为无限大，因而进入床层的吸附质可在瞬间被吸附剂所吸附，此时床层内的吸附质象活塞一样向下移动。 图10-6 固定床吸附器 1-压圈；2-吸附剂； 3-筒体；4-支承板 由于实际吸附过程存在传质阻力，因而吸附平衡不可能瞬间达成，此时将在床层的入口处形成如图10-7(a)所示的传质区。在吸附传质区内，吸附质浓度由初始浓度C0沿流动方向逐渐下降。 吸附过程传质区又称为吸附前沿，所占的床层高度又称为传质区高度。传质区以下的区域为新鲜的吸附剂，称为未用区。 （a） （b） （c） （d） 图10-7 固定床吸附过程示意图 当流体连续流过床层时，某时刻床层内的吸附质浓度沿床层高度变化的曲线，称为吸附负荷曲线，如图10-8所示。 图10-8 吸附负荷曲线 吸附器出口流体中的吸附质浓度随时间而变化的曲线称为透过曲线，如图10-9所示。 图10-9 固定床吸附器的透过曲线 传质区形成之后，将沿流体的流动方向不断下移。由于吸附剂不断地吸附，床层上部的一段吸附剂将达到饱和，即吸附过程达到动态平衡。此时，整个固定床吸附器自上而下被分为三个区域，即上部的饱和区、中部的传质区和下部的未用区，如图10-7(b)所示。 传质区形成后，若流体的流速保持不变，则传质区将以恒定的速度向前推进，且高度亦保持不变，如图10-10所示。 图10-10 固定床内传质区的移动 随着吸附过程的进行，传质区将不断向前移动，因而饱和区将逐渐扩大，未用区将逐渐缩小。经过一定的时间后，传质区的前端将到达床层的出口，此时出口流体中的吸附质浓度开始突然上升，该点称为穿透点，如图10-9中的B点所示。 穿透点所对应的吸附质浓度和吸附时间分别称为穿透浓度和穿透时间。随着时间的推移，出口流体中的吸附质浓度不断上升，直至与进口流体中的浓度完全相同。此时，传质区离开床层，整个床层均成为饱和区，已失去吸附能力，需进行再生操作。 热再生法是通过加热的方法，使吸附质从吸附剂上脱附出来，从而达到使吸附剂再生的目的，它是目前应用最为广泛的再生方法。 实际生产中，热再生法常以高温水蒸气或惰性气体作为加热介质，使用时应特别注意吸附剂的热稳定性。 热再生法可分解多种吸附质，且对吸附质基本没有选择性，具有应用范围广、再生效率高、再生时间短等特点，是目前吸附剂再生的主要方法。缺点是能耗、投资和运行费用较高。 溶剂再生法一般通过以