化学镀法制备Si-%2c3-N-%2c4-—Co复合纳米粉末新技术的研究.pdfVIP

摘 要 本文以常温讫学锾法饿备离质薰的缡米氮纯硅一钴磷复台狳末为醚标，研究 镀液缀分及其工艺参数对纳来羝纯硅超声波纯学镀镳的影确溉律，簿翔了缡米氮 纯硅越声波纯擎镀熬俊能酝方，铡褥了镀矮臻匀，分数淫菇懿纳寒复含粉寒。宠 袋静主要工{乍如下： 邋过在纳米氮化礁的活化及化学镀反应过理中施麴超声波，实理纳米氮化醚 瀚擘澄讫攀锾，解决纳米粉米分散性酌目髓。 用高分辨电镜观察爱合粉体的形貌，进行电子衍射分析}用D／3AX3B型x 辩线衍射仪作笈台耪侮瓣镑耱分析；惹PV9900蝥熊潜仪终复合糖寒兹成分分辨。 邋过对比实验，分别就镀液组分及其工艺参数对纳米氮化磁化学镀钻反应孕 育怒、爰应遮爱、复合黪束努飘、彩襞，镀爱残嚣及确蘩秘懿影酸蕊簿遴褥了深 入研究。 p f孕嘉麓蹩夏竣纯学镀滚囊爨，彩嚷纯学镀效率的蓬要参数。凌酸键帮次篷麓 酸钠浓度的增加，镀液的PH德升高，装载璧的增大，反应的孕育期变短： 镀速愚爱壹对闽与瓒耋综合{乍瑟豹续浆。实验裟麓：缓液PH篷鞠穗镀溢菠 升高，次露磷藏镶稳缓冲裁浓度蹭鸯蜃，镀遵提高。蕊羧锫浓浚穗蕊，镀遴增鸯攥， 浓度30彰潜霄最大壤。络台裁凌浓瘦较鬣瓣对{皂攀镁弯热逡俘蘑，浓度太蔫反 瓣会楚缓镀遮。 镀液的PH值与次妲磷酸钢和硫酸话的糜尔比I一鬻对镀艨成分、及 嘏缮摘瓣影噙较为显藩。镀滚P弑值秀嵩，镀层磷禽餐袋少，澎戏婆疆疆溪懿麓 势增大。次溉磷酸钠与硫酸钴的麾尔比I增大，镀鼷磷含量增加，形成非晶态镀 滋麓趋势璜热。 PH值在9．5～11．0之间，镀液稳定性妻子，所得复合粉末镀覆均匀，磁性较好。 碱鼗锭滚度18～409／t，凌妥磷黢镝浓凄20～409／I，可以霉戮镀覆均匀、分鼗蛙 好的复合粉末：增加奠浓度，复合粉体的镀覆质量得以提高。使用酒石酸钾钠作 络台裁黠，其浓度在120～135；烈莲銎蠹，镁鬟柠檬黢锻俘终台测麓，葵浓度褒 40～65之间，可以褥副镀覆均匀、分散骸好的复合粉末。装裁麓在l～109／1之 I．白J，可以实现纳米氮化硅粉末的完全包覆，得到镀覆均匀、分散性较好的复合粉 末。装载量小，复合粉体金属钴磷合金的含量高，镀层厚；装载量大，复合粉体 中的金属钴磷合金的含量低，镀层薄。 预处理过程对化学镀的影响较大，活化效果好，研磨较细，较干燥的施镀粉 术，反应孕育期短，镀速快，镀覆质量好。 通过综合考虑镀液稳定性和复合粉末的质量，在上述对比实验的基础上，筛 选优化配方，得出了纳米氮化硅常温化学镀的优化配方，经TEIv妒XRD、EDX 卜、／ 分析，表明所得复合粉末粒径均匀，分散性高，镀层质量好。， 关键词：纳米氮化硅；钴磷合金；化学镀；复合粉末：超声波 ll ABSTRACT ofthe isto nano of The Si3N4一Co high objectivepaper get compositepowder atnormal ruleswereresearchedthat eIectroless by plating temperature．The quality and conditionaninfluence reaction had solution the ofeleetroless composition plating of withultrasonicwave．Thebest offthe