1064nm倍频波长分离膜的制备与性能研究.pdfVIP

第 32 卷 　第 6 期 中　 国 　激 　光 Vol . 32 , No . 6 　 2005 年 6 月 C H IN ESE J OU RN AL O F L A SER S J une , 2005 　 　　文章编号 :(2005) 1064 nm 倍频波长分离膜的制备与性能研究 1 ,2 1 ,2 1 1 ,2 1 ,2 1 1 马小凤 , 张东平 , 王英剑 , 范书海 , 高卫东 , 范正修 , 邵建达 1 中国科学院上海光学精密机械研究所光学薄膜技术研发中心, 上海 20 1800 2 中国科学院研究生院, 北京 100039 摘要 　通过对主膜系添加匹配层并借助计算机对膜系进行优化 , 设计出结构规整 、性能优 良的 1064 nm 倍频波长 分离膜 。用电子束蒸发及光电极值监控技术在 K9 玻璃基底上沉积薄膜 , 将样品置于空气中在 260 ℃温度下进行 3 h 热退火处理 。然后用 Lambda 900 分光光度计测量了样品的光谱性能;用表面热透镜( STL) 技术测量了样品的 弱吸收值;用调 Q 脉冲激光装置测试了样品的抗激光损伤阈值( L ID T) 。实验结果发现 , 样品的实验光谱性能与理 论光谱性能有很好的一致性 ,退火前后其光谱性能几乎没有发生温漂 , 说明薄膜的温度稳定性好; 同时退火使样品 的弱吸收减小, 从而其激光损伤阈值提高 。理论和实验结果均表明, 对主膜系添加匹配层的方法是 1064 nm 倍频 波长分离膜设计的较好方法 。 关键词 　薄膜 ; 倍频波长分离膜 ; 弱吸收; 激光损伤阈值 中图分类号 　O484 　　　文献标识码 　A Fabrication and Properties Study of Harmonic Beam Spl itter at 1064 nm MA Xiaofeng1 ,2 , ZHAN G Dongping1 ,2 , WAN G Yingjian1 , FAN Shuhai1 ,2 , GAO Weidong1 ,2 , FAN Zhengxiu1 , SHAO J ianda1 1 R D Center f or Op tical Thin Film coatings , S hang hai I ns titute of Op tics and Fine M echanics , The Chinese A cademy of S ciences , S hang hai 201800 , China 2 Grad uate S chool of the Chinese A cademy of S ciences , B eij ing 100039 , China Abstract 　A harmonic beam splitt er wit h a simp ly regular st ruct ure and good op tical charact eri stics was designed by adding matching