半导体光催化的研究进展与展望.pdfVIP

第16 卷 第5 期 化 学 物 理 学 报 VoI. 16 ，No. 5 2003 年10 月 CHINESE JOURNAL OF CHEMICAL PHYSICS Oct. 2003 1003-77 13/ 2003/ 05-339-11 综 述 半导体光催化研究进展与展望* a ，b a a b b ** 韩世同 ， 习海玲 ， 史瑞雪 ， 付贤智 ， 王绪绪 （a. 中国人民解放军防化研究院，北京 102205 ； b. 福州大学光催化研究所，福州 350002 ） 摘 要： 评述了目前半导体光催化在国内外的研究概况，并对存在的问题和未来的发展动向进行简要分析. 列 举了近30 年来关于光催化研究的部分成果，内容涉及光催化剂的制备（包括新催化剂的开发，TiO 、ZnO、CdS 2 等光催化剂的各种改性或修饰）、光催化作用机理研究、光催化技术的工程化、光催化技术的各种应用研究和产 品开发等等从基础到应用研究的各个方面. 总体上来看，半导体光催化基本上是一个没有选择性的化学过程，所 以再进行大量的不同反应物的光催化活性的评价研究意义已不是很显著，认为未来的半导体光催化研究应该集 中在机理的深刻认识、光响应范围宽和量子效率高的催化剂制备、半导体光催化技术工程化及新型光催化产品开 发方面. 关键词： 综述；半导体光催化；二氧化钛；环境污染治理 中图分类号： O614 . 4 文献标识码：A Prospect and Progress in the Semiconductor Photocatalysis * a ，b a a b b ** Han Shitong ， Xi HaiIing ， Shi Ruixue ， Fu Xianzhi ， Wang Xuxu （a. The Academy of Chemical Def ence ，The Peop le s Liberation Army ，Beij ing 102205 ； b. Research Institute of Photocatalysis ，Fuzhou Uniuersity ，Fuzhou 350002 ） Abstract The recent progress in the researches on semiconductor photocataIysis was surveyed ，and some existed probIems in the current study and the future trend of deveIopment were briefIy anaIyzed. The main achievements in the studies of photocataIysis during the recent three decade