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第 39卷 第 11期 金 属 学 玫 V0l1．39 NO．II
2003年 11月 1193— 1196页 ACTA METALLURGICA SINICA Nov．2003 PP．1193-1196
反应磁控溅射法制备nc_，——TiN／a-SiaN4薄膜的
Young’S模量和内耗
李朝升 王先平 方前锋
(中国科学院固体物理研究所材料物理重点实验室，合肥230031)
S．Veprek
(InstituteforChemistryofInorganicMaterials，TechnicalUniversityMunich，D-85747，Munich，Germany)
李世直
(青岛科技大学材料与环境科学学院，青岛 266042)
摘 要 利用振簧技术测量了不同退火状态下的nc-TiN／a-SisN4超硬薄膜的Young’S模■和内耗随温度的变化关系．在
28O—．300℃附近观察到一个弛豫内耗峰．随着退火温度的升高，该内耗峰逐渐减弱，而 Young’S模量变化不大． 750℃退火
后，该内耗峰消失，而模■却从未退火时的 430GPa激增至 530GPa．初步认为该内耗峰来源于非稳定界面的弛豫过程．
关键词 纳米TiN／非晶SiaN4薄膜，内耗，Young’S模■，非稳定界面
中圈法分类号 TGII3．22，TB383 文献标识码 A 文章编号 0412—1961(20o3)11—1193—04
INTERNALFRICTIoN AND YoUNG ’SM oDULUSoFTHE
nc-TiN／a-SiaN4FILMsPREPAREDBYREAcTIVE
M AGNETRoN SPUTTERING M ETHoD
LIZhaosheng,WANGXianping，FANGQianfeng
KeyLaboratoryofMaterialsPhysics，InstituteofSolidStatePhysics，TheChineseAcademyofSciences，Hefei230031
S．Veprek
InstituteforChemistry ofInorganicM aterials，TechnicalUniversityM unich，D--85747，M unich，Germ any
IShizhi
InstituteofMaterialsnadEnvironmentSciences，QingdaoUniversityofSciencenadTcehnology,Qingdao266042
Correspondent：FANGQianfeng,professor, f(o551)5591459．E-mail：qffang@issp．ac．cn
SupportedbyNationalNaturalScienceFoundationo／China(Nolo24o86)andVolkswagenStiflung
(No．I，l92)
Manu8criptrecei’ved2003-07_69
ABSTRACT ThevibratingreedtechniqueiSusedtoevaluatetheYoung’Smodulusandinternal
frictionofnc—TiN／a-SisN4superhardfilms．ArelaxationpeakiSobservedaround280℃ inthe
receivedfilm．W ithincreasingthenanealingtemperature．thispeka weka ensna dtheYoung’Smodulu8
atroom temperaturechna gesslightly． Afterannealingat750 ℃ 。 thispeka disapperaswhilethe
modulusincreasesrfo
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