氨基甲叉羧酸化合物和氨基甲叉膦酸化合物阻垢缓蚀性能的量子化学研究.pdfVIP

氨基甲叉羧酸化合物和氨基甲又膦酸化合物 阻垢缓蚀。I,土N-Z月～I匕5的量子化学研究 褚玉婷1,2吕志敏1夏明珠2雷武2王风云2 CWTC．07．011 合物和氨基甲又膦酸化合物的分子结构与阻垢缓蚀性能之间的构效关系。结果表明分子中对缓蚀 阻垢性能影响较大的是羧基和膦酸基上的氧原子，其电荷对阻垢效果的贡献比较大，其亲核Fukui 指数对缓蚀效果有很大的影响，缓蚀性能与轨道能量有较好的相关性，分子中氮原子的电荷和亲 核Fukui指数对缓蚀阻垢性能都有影响。 [关键词]氨基甲叉羧酸化合物；氨基甲叉膦酸化合物；缓蚀；阻垢；量子化学 采用量子化学方法对阻垢缓蚀剂的阻垢缓蚀性能研究具有重要的理论意义，前人对含N、 S的阻垢缓蚀剂做了大量的研究工作【l圳，含P的缓蚀阻垢剂是一类重要的缓蚀阻垢剂，但有 关其分子水平的研究报道却比较少。本文将以氨基甲叉羧酸化合物和氨基甲叉膦酸化合物为 量子化学计算，得到分子的空间构型、原子电荷、能隙和Fukui指数等一系列参数，将这些 微观电子性能与宏观的阻垢缓蚀性能对比分析，可以为理解阻垢缓蚀的微观机理，并进而为 高效的阻垢缓蚀剂的设计提供可靠的理论基础。 1计算方法 上述八种物质的初始构型由ChemO所ce2004【31中的Chem3DUltra 9．0构建，在不施加任伺 对称性限制的条件下，采用半经验PM3方法对分子构型进行预优化(包括键长、键角以及一 基组，对预优化后的分子进行几何构型全优化，并进行频率计算和分子轨道的计算，收敛精 度取程序内定值，所得结构均为势能面上的极小点(无虚频)。全部计算均在PentumIV计等 机上完成。 2计算结果与讨论 2．1分子几何构型和构成分析 2．1．1分子的几何构型 饼 H3C—— 工／／＼＼工 占守 ∞ 1 AMDMCA O 工＼I ●饼 Il 一 HO—C一 一 k／＼／H 止l／Il／工 一勺 2ATMCA 工＼I 阱H 斟，4 。卅 工／／＼一＼工 I＼!守I‘／工 3ADMCA YI 冒¨ 2HN—C—C—OH l