化学镀Ni—P合金镀层孔隙率的影响因素.pdfVIP

维普资讯 2007年11月 电镀 与 精 饰 第29卷第6期(总177期) 文章编号 ：1001—3849(2007)06—0001—03 化学镀 Ni—P合金镀层孑L隙率的影响因素 卢旭东， 邵忠财 (沈阳理工大学 环境与化学工程学院，辽宁 沈阳 110168) 摘要：钕铁硼化学镀Ni—P合金层的孔隙率与镀层的耐蚀性有很大的关系。以铁氰化钾为指示剂采 用贴滤纸法测定钕铁硼化学镀Ni—P合金层的孔隙率，研究了镀液pH、温度、主盐、还原剂及络合剂 浓度对化学镀 Ni—P合金层孔隙率的影响，并确定最佳的镀液参数 ，通过扫描 电镜验证实验结果。结 果表明：孔隙率随着镀液组成、pH及温度的增加而先减小后增加 。 关 键 词 ：钕铁硼 ；化学镀 ；孔 隙率；耐蚀性；Ni—P合金 中图分类号 ：TQ153．2 文献标识码：A FactorsAffectingPorosityoftheElectroless Ni—P AlloyCoating LU Xu—dong，SHAO Zhong—cai (SchoolofEnvironmentandChemicalEngineering，ShenyangLigongUniversity，Shenyang 110168，China) Abstract：Corrosionresistanceoftheelectrolessplatingcoatingisdirectlyrelatedwiththeporosi— ty ofthecoating．Effectofbath temperature，pH ，concentrationsofcomplexant，NiSO4and NaH2PO2onporosityofelectrolessNi—P coatingwereinvestigated inthispaperusingthefilter papermethod．Thebestparametersfortheplatingbathwereconfirmed．Thecoatingporosity wasexaminedbymeansofthescanningelectromicroscopy (SEM )．Resultsshow thattheporosi— tyisdecreasedintheearlierprocessandincreasedinthelateprocesswiththeincreaseintheplat— ingbathparameters．Thefilterpapermethodusingpotassium ferrocyanideasanindicatorwasa practicableway． Keywords：Nd—Fe—B；electrolessnickelplating；porosity；corrosionresitance；Ni—Palloy 业、仪器仪表以及微特 电机等方面获得越来越广泛 引 目 的应用l】]。但钕铁硼非常活泼，表面极易氧化和腐 由于钕铁硼永磁体具有显著的高性价 比，成型 蚀 ，环境稳定性差，它的晶界富钕相易氧化及吸氢粉 加工方便且精度高、韧性好、不易破坏等特点，非常 化是导致磁体耐蚀性差 的主要原因[3]。 适合当今 电子设备向小型、轻量、便携、高可靠性等 在钕铁硼表面采用化学镀 的方法可以得到耐蚀 方向发展 的趋势，正在电子工业 、汽车制造、冶金工 性能良好的Ni—P合金镀层 。但是 ，由于在化学镀时 收