SiO2表面酸性红外光谱和密度泛函理论的研究.pdfVIP

SiO2表面酸性红外光谱和密度泛函理论的研究.pdf

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维普资讯 第 28卷 第 7期 催 化 学 报 2007年 7月 Vo1.28No.7 ChineseJo1A?nalo{Catalysis July2007 文章编号 :0253—9837(2007)07—0627—08 研究论文 :627~634 SO 一/SiO2表面酸性的红外光谱和密度泛函理论研究 郭岱石 , 马紫峰 , 蒋淇忠 , 叶伟东 , 李春波 (1上海交通大学化学工程系 ,上海 200240;2浙江医药股份有限公司新 昌制药厂 ,浙江新 昌312500) 摘要 :对介孔 SiO2及硫酸根促进 的 siO2样 品进行 了原位吡啶吸附红外光谱测试 ,分别建立了硫酸根促进前后 的SiO2表面原 子簇模型,用密度泛函理论对其吡啶吸附行为进行了计算,分析了SOi一/SiO 表面酸性产生的机理.实验和计算结果表明, SOj一/SiO,表面不存在 Lewis酸中心,原位红外谱图中表征 Lewis酸性的特征峰对应于氢键吸附吡啶的环振动,这种氢键作用 因SiO 表面 的硫酸根促进而得到加强.HOS ;螯合结构为s /SiO2表面 Br0nsted酸 中心,其酸强度强于表面磺酸基团修饰 的介孔 SiO,材料 SOH—MSU,而弱于 HZSM一5.s 一/SiO2的酸催化活性源于其表面 的Bmnsted酸性 . 关键词:二氧化硅 ;硫酸根 ;表面酸性 ;吡啶吸附;红外光谱 ;密度泛 函理论 中图分类号 :0643 文献标识码 :A FT-IR andDensityFunctionalTheoryStudieson SurfaceAcidityofsoj一/sio2 GUODaishi,MAZifeng ,JIANGQizhong,YEWeidong,LIChunbo (1DepartmentofChemicalEngineering,ShanghaiJiaoTongUniversity,Shanghai200240,China; 2XinchangPharmaceuticalFactory,ZhejiangMedicineCo.Ltd,Xinchang312500,Zhejiang,China) Abstract:SilicaMCM一41withoutandwith sulfuration treatmentwasmeasuredby insitu pyridineadsorption infraredspectroscopy.ClustermodelsofpureSiO2ands /SiO2werebuiltup,anddensityfunctionaltheory calculationsonpyridineadsorptionwerecarriedouttoanalyzethesurfaceacidityofs /SiO2.Thecombined resultsofexperimentaland theoretica1studiesshowed thattherewereno Lewisacid siteson thesurfaceof s 一/SiO2.TheIR frequenciesassignabletoLewisaciditycorrespondedtotheenhancedhydrogen—bondedad— sorptionofpyridinebysulfurationtreatment.ThechelatingstructureofHSO4 actsasBr0nstedsitesonthesur— faceofsOj一/SiO2,withanacidstrengthhigherthanthatofsulfonicgroup—functionalizedsilicaSO3H—MSUbut

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