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离子源对磁控溅射制备TiNC膜基结合力的影响 钱锋 刘树红 林晶 （深圳市天星达真空镀膜设备有限公司， 深圳， 518172） Influence of Ion source assisting deposition on the film adhesion of TiNC　prepared by Magnetron QIAN Feng， LIU Shuhong， LIN Jing (Shenzhen Tenstar Vacuum Ltd， Shenzhen， 518172) 摘要: 由于膜基附着力不好，膜层脱落（俗称掉膜）问题是工业生产中磁控溅射镀制黑膜最常见的问题，本实验采用阳极线性离子源和霍尔点源辅助磁控溅射复合技术在制备了 T iNC薄膜， 试图探讨解决在工业生产中解决TiＮＣ膜基附着力不好的问题，初步的实验结果表明，离子束辅助沉积对于改善膜基附着力的作用并不明显，本文尝试探讨了部分可能的影响因素。 关键词：阳极层离子源，　膜基附着力，　TINC，中频磁控溅射 Abstract: Bad films adhesion is one of the most popular problems in the PVD coating production， specially black PVD decoration coating. In this paper， TiNC are prepared by magnetron assisted by ion source to improve the films adhesion. However， the experiments shows the influence of ion source on the improvement of adhesion is not effective， the reason is discussed in details. Key words: anode linear ion source， magnetron sputtering， TiNC， films adhesion 引言 离子束辅助沉积(IAD)是光学镀膜中一种常见的技术，其作用已在实验室和工业生产中得到了广泛应用.离子束的作用主要有两个方面，一是镀膜前利用离子束清洗加以改善膜层和基材的附着力，特别是在塑胶等不能加热烘烤的基材，采用离子束轰击可有效地对基片进行清洗.二是制备高质量的光学薄膜高硬度及高附着力，一般采用，要求降低由于薄膜吸潮引起波长向长波漂移，降低薄膜的吸收及散射引起的光学损耗，降低薄膜的抗激光损伤，一般均采用合适工艺的离子束辅助镀膜技术来解决，增加蒸发原子动能， 提高膜层的致密性.据称，国外生产镀膜机的厂家出厂产品60％都已配备离子源（1），这个数字可能同我们国内引进的大多数光学镀膜机均为制备高档光学薄膜有关.国内生产的光学镀膜机在几年前也有部分配置了离子源，但近年来工业生产用的光学镀膜机只有镀制不能烘烤的基片的才配置离子源。 在磁控溅射镀膜中，特别是工业生产中离子源的辅助沉积镀膜的使用还不常见.大约4-5年前已有不少研究机构和大学以及工业客户开发各种离子源(阳极层离子源和射频离子源)和将离子源用于磁控溅射镀膜中，部分如成都核工业物理研究院等申请了专利和发表了各种研究结果（2）（5）。 众所周知，磁控溅射利用磁场约束等离子体，减少了离子和电子对基体的轰击，同时磁场的利用可大幅度提高沉积粒子的离化率，增强反应活性，但其离化率只有3%， 因此，采用外部离子源辅助磁控溅射技术这几年引起了人们的重视，借以提高磁控溅射的等离子密度和金属离化率。目前， 国内相应的文献报道则较少，部分研究机构和工业界开展了这方面的研究和应用（3）（4）（6）（7）。 本实验采用阳极线性离子源和霍尔点源辅助磁控溅射复合技术在低温下制备了 T iNC薄膜， 试图探讨在工业生产中解决TiNC膜基附着力不好，掉膜的问题。 实验方法 2.1阳极层离子源简介 阳极层离子源，又称线性离子源，矩形离子源或条线离子源，阳极层离子源中电子在电磁场的作用下，形成环形的霍尔电流，从而增加了电子与中性气体分子或原子的碰撞几率，提高了气体的离化率。在阳极表面附近区域由于电子和中性气体碰撞电离形成了等离子体，其中离子在阳极和阴极电势差以及交叉电磁场所形成的霍尔电流的共同加速下从离子源下游引出。由于离子的产生和加速发生在阳极附近的一个狭小的区域(在一条环形 长方形或圆形窄缝中施加强磁场，在阳极作用下使工作气体离子化并在射向工件)，所以把这种离子源叫做阳极层 由于阳极层离子源结构比较简单，不需要电子发射器和栅极 图1.阳极层线性离子源结构示意图 实验设备和样品制备 薄膜的制备设备采用Φ1200的中频磁控溅射系统，其结