闪光照相中的侧向散射的Monte+Carlo研究.pdfVIP

第三篇蒙特卡罗方法应用 Carl 闪光照相中的侧向散射的Monte0研究 张绚，刘 军 (中国工程物理研究院流体物理研究所。四川绵阳621900) I摘要l 针对单轴3mFTO照相系统布局，在距客体Im处与光轴垂直的侧向方位放置记录平面。利用Monte Carlo方法对其侧向散射进行数值模拟，探求减小侧向散射的措施，为以后双轴照相系统的研究提供依据。分析 了同一系统中各参数对侧向散射强度的影响，如侧向记录面相对FTO的距离，结果表明：前保护器是侧向散射的 主要来源，在前保护器后端放置屏蔽环可以大大减少前保护器的散射。 l关键词I 法国实验客体：闪光照相：侧向散射：MonteCarlo方法 l中图分类号l R814．3；0434．1 I文献标识码I A 0引言 高能闪光照相中，对图像质量影响最大也是最不确定的凶素是高能X射线与系统器件作用产生的散射 分布。不同照相系统的散射分布不同以及散射分布的极不均匀性，极大地影响了对客体信息的准确提取。 因此，开展散射的研究，准确确定系统的散射分布及影响凶素并进行相应处理，是准确提取闪光照相系统 客体信息的前提。在双轴闪光照相系统中，除了同轴的散射，来自异轴的散射的影响更为严重，后者便是 本文称之为的侧向散射。本文分析了X光与物质的相互作用过程，以法国实验客体FT011’2埘的3m闪光照 相系统建立模型，利用MonteCarlo方法模拟光子输运过程，得到侧阳散射的窄间分布，并利用屏蔽环进行 降散射的模拟。 1 散射理论 在高能闪光照相中，所关心的散射是高能X射线光子与物质的相互作用，包括光电吸收、康普顿散射 和电子对生成等效应。光子与物质相互作用的几率可以用微观截面来描述。光电效应、康普顿效应和电子 对生成效应的截面分别用仃。，盯。与盯印表示，不同元素的截面具有不同数值，且是光子能最的函数【4】·光 子与物质相互作用的总微观截面近似为它们的和：or，=盯。+盯。+矿阳。 对于一定的入射光子能量，经过多次散射转化为散射辐射能量的总几率可以表示为 Ps：上【o．1％+(o．1+!多盯印+(o．1+o．9p--c)o，](1) “ of 式中 磊：!!±兰型坠兰竺!!旦!!±丝!±兰竺：!!±兰型!二丝±型!(2) 闪光照相中一次散射照射量』。(々)的表达式为嘲， (3) ‘￡)=广扭脓E云)蠢删声鲁竺笔睾≥弩争盟乃(Ei，石珥饵，一r0，i)反 卜一‘lI珞一％l 202 第十届全国蒙特卡罗方法及其应用学术会论文 其中E为光子能量，EI。为光子最大能量，S(E，‘)为源光子强度分布，‘，％，rF分别为源、散射体和探 测点坐标，B(‘，％)和昂(ro，rD为源到散射体的指向概率和散射体到探测点的指向概率，乃(E，‘，％)和 C(E’，ro，珞)为源到散射体的光子透射率和散射体到探测点的光子透射率，crf％(％)为光子在散射体中发 生散射的概率。 2系统布局 对Fro客体的3m闪光照相系统建立模型嘲。Fro是由一组同-心球层组成的静态高密度客体。X射线 探测器1是记录直穿量和前向散射量的，侧向探测器2用以记录侧向散射量。 慧一 一 ～囫一囫 沪蛾工I 图l布局示意图 The ofthe Fig．1 layout radiographicsystem 3模拟结果分析 3．1侧向散射与正向散射的对比 侧向散射选择沿光轴一条线上的分布进行数值模拟，与前向散射做简