等离子体表面处理改变薄膜电气性能的研究论文.pdfVIP

—————————J望皇塑三堡堂叁堕皇堡童兰竺重星叁!!!!生兰查垒鲨堡苎 等离子体表面处理改变薄膜 电气性能的研究 戴玲，林福昌，严飞，韩永霞，李劲 华中科技大学电气与电子工程学院(武汉430074) 捅 要：等离子体技术用于材料的表面处理已有几十年历史。本文分析了用低温非平衡态等离子体对薄膜进行表面处 理，以改善其电气性能的机理。作者建立了两套膜处理装置：低气压下的直流辉光放电装置和大气压下介质 阻挡(DBD)的丝状放电装置。在直流辉光下，用空气和氧气两种气体处理薄膜；空气DBD下，用不同长 短的时间处理。处理结果表明：直流辉光下，空气和氧气两种等离子体表面处理对聚丙烯薄膜的直流击穿场 强没有明显改变。空气DBD等离子体处理薄膜，会造成薄膜击穿场强下降。红外光谱显示了空气中等离子 体处理后的聚丙烯薄膜表面没有新的成分出现，但有部分化学键断裂和交联。 关键词：等离子体表面处理薄膜电气性能 1引言 用低温非平衡态等离子体对材料进行表面处理，改变其化学和物理性质，是目前许多材料改性所 采用的方法，这方面的研究已有多年历史，并取得了诸多成果。