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第27卷 第2期 西 安 交 通 大 学 学 报 Vo1.27N-O1
1993年 2月 JOURNALOFXPAN JIAOTONG UNIVERSITY Feb.1993
, 一
CSM 系列半导体测试系统的研究
陈光遂 何丕模 高 捷 陈敏麒 丁 ^/ 。 。7
(电子工程暮)
摘 要
CSM 系列 自动化半导体测试 系统是 由微型计算机、接 口电路单元 以及各种模拟
测量仪器 组合构成 的专 用测试 系统.测量仪器 是 1MHz电容仪、微 电流 仪、线性斜坡
电压发生器等等.本文重点介绍 CSM Ⅱ型系统.该 系统 已配备七套应用软件 ,既可用
于集成 电路芯片生产过程 中关键 I序的在线工艺检测 ,也可用于半 导体器件 的研究
关键词茹:兰呈堡翟墨±±!半导体材料;集羹成釜电路耋II.艺;测it系统;测试装装置置 洲,、争甲
中国图书资料分类洼分类号:TN407;TN304.07 乙5/参 If
0 引 言
半导体器件和集成电路芯片制造是技术高度密集 的产业.在研究和生产过程中,关键工序
的材料、工艺参数的监测是极重要的环节,它直接影响着产品的质量、可靠性和成品率.-r(电
容-电压)、一£(电容一时闻)、I-V(微 电流一电压)、。_ (电荷一电压)等等测试是半导体测试的重
要领域 ,测试方法繁多 “,时至今 日仍在发展之中,这些方法可 以作为工艺控制的基础.不过 ,
由于数据的获得和计算工作量大 ,如果不搞测试过程 自动化,这些测试方法都无法向工厂企业
推广.近 10年来 ,一些发达国家纷纷开展检测手段 自动化的研究工作 ,70年代束最早问世的
是美国PAR公司的Model410C-VPlotter,80年代中MDC公司研制成了CSM/16半导体测试
系统.此外,惠普公司的HP406]A、HP40~3A综合参数测试系统也有 一、C-等测试功能.这些
检测设备在国外已得到广泛应用,我国的研究所和工厂也引进了一些.目前我国急需研制这类
快速测试系统,满足研究和生产需要.
我们从 l975年起开展半导体表面测试研究工作.有了这些理论和实践基础后,从 1983年
起研究微机化多功能的 — 测试系统,初步成果已经在国际会议上报遭过0].本文介绍我们根
收到 日期 {1992—04—20
。七五 国家重点科技攻关项 目
酉 安 交 通 大 学 学 报 第 27卷
-
据 “七 ·五”国家重点科技攻关任务研制 的新型CSM 系列半导体测试系统的设计原理、系统结
一
构及软件功能.
1 系统设计
1.1 测量原理
本 系统采用的测试方法主要是对半导体表面层进行测量.测试样品有三大类 :MIS结构
(金属一绝缘层一半导体 ,绝缘层常用氧化层,因此是MOS结构),单边突变P—N结和金属一半导
体 肖特基势垒接触.
对于 MOS电容测量,总电容 C是栅极 电压 的函数
C一 ( )= C7 ( )+ (L)
其中 是半导体表面空间电荷层 电容 ,受栅压调制. 是恒定的氧化层 电容一
对于p-N结电容测量,因为不存在串联的氧化层电容 ,所以式 (1)更为简化.肖特基结
电容与此类似.由于这两类样品的正向偏置 电容和正向电流随偏压增加而急剧上升,所以一般
只能测量反 向偏压时的C—V特性.
进行 电容测量时,样品的正确制备极为重要 ,否则可能引起很大的测量误差-我们曾对 肖
特基结 电容测量进行过详细的误差分析,利用等效电路推导了样品中存在串
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