列阵均匀照明系统的优化设计67552.pdfVIP

维普资讯 s ，5l{c) 第 9卷 第 4期 强 激 光 与 粒 子 束 Vo】_9．No．4 1997年 11月 HIGH POW ER LASER AND PARTICLE BEAMS Nov ．】997 列阵均匀照明系统的优化设计 TL 2．f 摘要结台理论分析和神光系列装=置均匀照明系统的设计：和：实验经验-从从光光的的衍衍射、’^牛，。／ 摘 要 结 干涉与光束质量等角度分析了由透镜或衍射光学元件组成 的列阵大焦斑均匀照明系统参数与 靶面焦斑强度分布的关系．提出了列阵系统的优化设计方法。工CF 关键词 列 阵光学系统 在惯性约束核聚变 (ICF)实验与高压状态 定性等实验研究中，需要 将 高功率激光束非常均匀地入射到特 定的靶面。为达到这一 目的，在神光 I和神光 Ⅱ装置上 采用了邓锡铭发明的透镜列阵均匀照明系统 口]，实践证明，这是一个非常有效 的方案，应用 它已取得了很好的实验结果。这一方案的核心是准近场照明和用列阵分割波面使得在入射光 束近场强度分布很不均匀的条件下仍 能获得很均匀的靶面焦斑 。一般认为 ，列阵元的数且越 多，靶面焦斑 的均匀化效果越好 。然而在实验中发现，由于通过列阵系统后各子光束的衍射 和干涉效应 ，列阵系统的参数 ，诸如列阵元的形状和大小等，对焦斑强度分布有很大的影响。 如何优化系统的设计成 了一个突 出的问题 。此外，近年来我们提出了用 由衍射光学元件组成 的列阵式均匀照明系统方案 。在列阵系统的设计方面也存在类似的问题。本文结合在神光系 统装置上的实践经验 ，从列阵系统列阵元参数对焦斑的衍射花样、干涉花样和光束质量的影 响等角度出发，分析列阵均匀照明系统的优化设计 问题。 1 衍射效应对靶面焦斑强度分布的影响 1．1 衍射对透镜列阵系统的影响 透镜列阵方案的核心是准近场照明以获得平顶的焦斑包络；和利用波面分割 与重叠，使 得在入射光束近场强度分布很不均匀的条件下仍能获得很均 匀的靶面焦斑。一般认 为，列阵 元的数 目越多 ，靶面焦斑的均匀化效果越好。确实 ．作为粗略估箅 ，当列阵元数为 Ⅳ 时，Ⅳ 个 子焦斑叠加平均 ，可望使焦斑均匀度提高约 Ⅳ倍。然而作这一估算时 ，我们忽略了一个很 重要的因素，即子光束通过列阵元之后的衍射效应 由于衍射，即使入射到列阵元上的子光 束是理想均幅平面波，在焦斑上仍会有很强烈 的衍射调制 实际上．采用透镜列阵方案时 ，为 了消除衍射的影响，需将靶面放置在一个适 当离焦 的位置上 ．使得各子焦斑不完全重叠 ，从 而将衍射条纹抹平。但是这样做的效果是有限的，尤其是当系统的菲涅耳数较小时，菲涅耳 衍射环很少 ，靠离焦补偿是很困难的。 因此 ，在透镜列 阵设计时．必须将衍射效应考虑进去。一般而言，当系统的菲涅耳数很大 时，子焦斑的强度分布包络接 近入射子光束 的近场分布 ，焦斑边缘 陡削，焦斑顶部衍射条纹 ·国家863惯性约束棱聚变顿域 资助堞1题 1997年4月28_l嘘勋原稿 ．1997年8月筋 口收刘修改稿 丘慢 ．男．1965年I2月出生 ·博 士．副研 维普资讯 508 强 激 光 与 粒 子 柬 第 9卷 数量多且细密。在这种条件下，多个子焦斑适量离焦叠加，能较好地将顶部的衍射条纹抹平 ， 同时保持焦斑边缘陡削 ，不降低系统的能量利用率 。透镜列阵系统的菲涅耳数F 可以用以下 公式估算 ： F一面d2A百【+去j (1) 其 中， 为透镜列阵元的直径； 为激 光波长 ；A、B为从透镜列阵入射面到靶面的ABCD矩 阵的矩阵元}R为人射光束的波面半径。在实验室条件下，R可认为趋于无穷大，即入射光束 为平行光。而 ^、B分别