电子束蒸发沉积重掺硅薄膜及其在低辐射玻璃上的应用.pdfVIP

刘学丽等：电子束蒸发沉积重掺硅薄膜及其在低辐射玻璃上的应用 电子束蒸发沉积重掺硅薄膜及其在低辐射玻璃上的应用+ 刘学丽，黄延伟，李向明，席俊华，季振国 (杭州电子科技大学材料与环境工程学院，浙江杭州310018) 摘 要： 采用电子束蒸发法以普通玻璃为基板制备 辐射玻璃上的应用，并通过沉积低辐射薄膜Ag膜，制 了重掺硅薄膜，通过SEM、EDS、透射光谱对其形貌、 成分以及透射率进行了测试表征。进一步采用铝诱导 硅薄膜作为Ag基Low-e玻璃保护膜的性能进行研 低温晶化法在玻璃基板上沉积Al薄膜，对重掺硅薄膜 究。 进行铝诱导晶化。XRD测试、电学性能测试以及可 2 实 验 见一红外光谱透射率测试结果表明，硅薄膜在温度为 300℃以上出现了Si(111)的衍射峰，薄膜的导电性得2．1薄膜的制备 到了提高，且具有较强的红外反射能力，表明在低辐射 在普通玻璃基板上采用DZS-500型电子束蒸发镀 玻璃上具有一定的应用价值。同时采用电子束蒸发法 膜系统制备重掺硅薄膜。靶材原料是电阻率为10_3