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综述文章%E)FG)+#
王光伟
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天津工程师范大学电子工程系 天津 DMM===
简要概述了激光在半导体技术中的主要应用 这些应用大致涵盖激光掺杂 激光退火 激光沉积薄膜 激光引发固相反应和
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激光光刻等几方面 激光光刻中 选取234 56 7%8 09: 56 ;%8 和 0= 56 8 准分子激光光刻着重进行了探讨 分析了这些激光
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工艺的现状 特点和最新进展 并对存在的问题和发展趋势作了研究
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激光掺杂 激光退火 激光沉积薄膜 激光固相反应 激光光刻
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!#$%’$()* (+ ,*-. $) 薄膜 激光引发固相反应作为一个较新的课题 有许多问题
需要研究 激光的一些参数 如中心波长 能量密度 脉冲宽度
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特征尺寸的不断缩小对光刻技术的要求越来越高 光学
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^E_] ]2$+36.’ 光刻的光源主要有波长为=? +0 的@/A 和 BCD +0 的E/A 准
分子激光 除光源外 成像透镜 光刻胶 掩膜版以及步进扫描等
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