不同表面预处理对有机电致发光显示器性能影响.pdfVIP

第! 卷# 第$ 期 液# 晶# 与# 显# 示 ;.2 !，=. $ !%% 年% 月 ’()*+,+ -./0*12 .3 4)5/)6 ’07,812, 1*6 9),:217, ?8@ ，!%% 文章编号：%%AB!AC% （!%% ）%$B%$%B%D 不同表面预处理对有机电致发光显示器性能的影响 庄筱磊，徐洪光，张积梅，何# 钧，施# 展，周# 刚，余# 峰，黄# 浩 （上海广电电子股份有限公司平板显示研发中心，上海# !%%%C，EBF1)2 ：017GH(/1*IJ K @ ?.F ） 摘# 要：从生产角度研究了基板表面的预处理工艺对4E9 性能的影响，分别用L; H.*+ 、 氧M21,F1 以及两者相结合的方式对基板进行表面处理，并按照生产工艺制作器件，从接触 角、方阻以及光电特性等测试结果对各种表面处理的样品进行比较。结果表明以上处理都改 善了器件性能，不同程度提高了器件的清洁度、亮度和发光效率，其中L; H.*+ 和氧M21,F1 结合的方式处理效果最为显著，器件在% ; 时亮度达到AN N!% ?6O F! ，比其他两种处理方式 亮度提高约!$ P 。 关# 键# 词：有机电致发光显示器；表面预处理；接触角；发光效率 Q=CAK@ K # # # 文献标识码：R 中图分类号： 了接触角、方阻、功函数的测试；并在不同表面处 # 引# # 言 理的各个基板上按照生产工艺进行制作同样结构 自NCA 年Q1*I 等人首次制成低压直流驱动 的绿色器件来进行光电参数特性的比较。各器件 ［］ 预处理工艺如下： 的有机电致发光显示器（4E9 ） 以来，其性能 得到长足进步［! U D ］。现在4E9 已从实验室走进 器件，L; H.*+ 处理；器件! ，氧M21,F1 处 了生产厂家，各种单色、全彩的器件应用于手机、 理；器件K ，L; H.*+ 和氧M21,F1 处理。 器件结构如下： V:K 等便携式数码产品上，其批量制造工艺日臻 WQ （$% *F ）O XW4 （K$ *F ）O ［$ ］ =MS （!$ *F ）O R25 （K$ *F ）Y ’$D$Q （P ）O R25 完善 。 K K 在如今的4E9 生产工艺流程中，在基板进 （K% *F ）O 4)Z（ *F ）O R2（%% *F ），上述材料均作 入真空镀膜工艺之前，通常进行清洗和表面预处 为生产使用所购置的商品化量产材料。 理工艺，而不同的生产厂商会使用不同的预处理 清洗工艺为标准生产设备：碱性清洗剂清洗， 方式，其中L; H.*+ 以及氧M21,F1 等是比较常 纯水清洗，超声清洗，纯净压缩空气吹干等工艺流 见的表面预处理工艺。本文从生产角度研究了 程。并分别进行L; H.*+ 紫外臭氧处理；真空条 4E9 基板表面的预处理工艺的效果，采用 L; 件下[Z :21,F1 ! 处理。有机材料蒸发速率为 H.*+ 、M21,F1 以及两者相结合的方式进行表面处 % @ U % @ $ *FO , ，阴极蒸发速率为% @ $ *FO , ；成膜 理后，从接触角和方阻值等方面进行测试比较，按