等离子体去除硅中硼杂质工艺的研究.pdfVIP

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2017-08-30 发布于安徽
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等离子体去除硅中硼杂质工艺的研究.pdf

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2010‐2‐26 主要内容一、引言二、等离子体除硼实验过程三、结果分析与讨论四、结论等离子体去除硅中硼杂质工艺研究一、引言等离子体在硅中作为受主元素的硼的浓度直接影响了电等离子体是由电子、离子池片的效率。和中性粒子组成的，宏观太阳能级多晶硅中硼浓度至少要小于太阳能级多晶硅中硼浓度至少要小于1ppmw。上呈电中性的电离气体上呈电中性的电离气体。当物质由气态转变为等离定向凝固、真空熔炼等常规方法不能有效去除子态时，其化学行为也随硅中的硼杂质。之发生变化。等离子体处理是目前最有效的除硼方法。 1 2010‐2‐26 等离子体除硼的原理二、等离子体除硼实验过程含有氧气或者氧气、水蒸气混合气的等离子所用硅料中硼浓度为27ppmw左右。体与硅中的硼反应得到的硼元素化合物。（如如BOBO、B2OB2O、BO2BO2、B2O2B2O2、B2O3B2O3、HBOHBO 系统抽真空后熔化硅料并在系统抽真空后熔化硅料并℃恒温恒温。。、BH2、HBO2、HB2O2、H3BO3、通入等离子气体与硼进行反应。 H4B2O4、H3B3O3、H3B3O6等）降温冷却。利用这些化合物的易挥发性来除去硼元素。采用SIMS测试提纯后硅料中的硼浓度。实验装置示意图等离子体的产生通入到等离子炬中的氩气，水蒸气，氧气在高频交变电场的作在高频交变电场的作用下发生辉光放电形成等离子体火焰。 2 2010‐2‐26 加入水蒸气后的等离子体发光光谱实验视频样品照片三、结果分析与讨论影响等离子除硼效果的因素：