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第 24 卷 第 4 期 红外技术 Vol . 24 No . 4
2002 年 7 月 Infrared Technology J uly 2002
红外光学薄膜的热应变效应分析
韩 军 ,柴常春 ,杨银堂 ,李跃进
(西安电子科技大学 微电子所 ,西安 7 1007 1)
摘要 : 引入了一个分析红外光学薄膜热应变效应的模型 ,并针对具体情况 ,对模型作了必要的改进 。
应用新模型对高温淀积薄膜的冷却过程进行了模拟计算 ,得出了冷却后薄膜平均折射率与多个薄膜工
艺和材料参数的关系 ,并对模拟结果作了相应的比较分析 。
关键词 : 光学薄膜 ; 热应变 ; 平均折射率 ; 模拟
( )
中图分类号 : TN2 14 文献标识码 : A 文章编号 : 100 1889 1 2002
固度 。
1 引言
由于热应力使薄膜材料发生弹性形变 ,从而导致
各种薄膜器件在红外光学中具有重要地位 ,如红 了薄膜的厚度和致密度的变化 ,而致密度的变化将会
外滤光片 ,红外探测器上的增透膜等 。随着红外技术 引起薄膜折射率的改变 。为了详细的分析这个过程 ,
的发展 ,红外器件中的薄膜的作用日益突出 ,然而红外 引入下面的模型 。这个模型是 Haruo Takashashi 在分
光学薄膜的质量和性能存在着种种问题 ,尤其是因为 析红外滤光片的温度稳定性时提出的[ 1 ] 。
薄膜应力的存在 ,会导致薄膜的开裂 、脱落 、折射率和 在给定温度 T0 下定义 n0 为整个红外光学薄膜
光学厚度变化 ,这将引起整个红外器件的参数漂移 ,性 的平均折射率 。
( )
能劣化 ,乃至完全失效 。因此系统的研究红外光学薄 n0 = N 0 P0 + 1 - P0 1
膜的应力特性是十分必要的。薄膜的应力分为内应力 3 ( )
P0 = V/ V 0 = V/ l0 2
和外应力两种 。内应力由薄膜的微观结构所决定 。外 式中: P0 为红外光学薄膜平均致密度, V 0 为薄膜内任
应力又称热应力 ,它产生的原因是薄膜和衬底的热膨 一区域的立方体体积 。V 为在 V 0 中薄膜材料实际占
胀系数不同。由于红外器件在野外工作时不可避免的 据的体积 。l0 为 V 0 一条边的长度, N 0 为薄膜中被薄
要经受环境温度变化的考验 ,而且在制备红外光学薄 (
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