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第 53 卷 第 1 期 2004 年 1 月 物 理 学 报 Vol . 53 ,No . 1 ,J anuary ,2004
( )
10003290200453 01 018207 ACTA PHYSICA SINICA 2004 Chin . Phys. Soc .
TiN 和 Ti1 - x Six Ny 薄膜的微观结构分析
张晨辉 雒建斌 李文治 陈大融
(清华大学摩擦学国家重点实验室 , 北京 100084)
(2003 年 3 月 14 日收到 ;2003 年 5 月 30 日收到修改稿)
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使用 x 射线衍射 XRD 、x 射线光电子谱 XPS 、高分辨透射电子显微镜 HRTEM 和原子力显微镜 AFM 多种
观测手段分析了 TiN 薄膜和 Ti Si N 纳米复合薄膜的微观结构. 实验分析证明 Ti Si N 薄膜是由直径为 3 —
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5nm 的纳米晶 TiN 和非晶 Si N 相构成 ,并且 Ti Si N 薄膜的表面粗糙度小于相同条件下制备的 TiN 薄膜 ,在
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Ti Si N 薄膜体系的自由能中引入界面能的概念 ,在此基础上分析了体系中 TiN 晶粒的取向问题.
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关键词 : 纳米复合薄膜 , 自由能 , 表面粗糙度 , TiN , Ti Si N
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PACC : 6110 , 6848 , 8115J
能[ 12 ] . 发现在 Si/ Si + Ti ,为 023 ( 即 Ti077 Si023 Ny ) 时 ,
1 引 言 薄膜硬度达到 42 GPa . Veprek[ 11] 认为纳米复合薄膜
的超硬现象是由于其独特的微观结构可以有效地抑
材料的微观结构 ,诸如晶粒取向、晶粒粒度以及 制薄膜中纳米裂纹的形成和生长 , 因而需要更大的
缺陷的类型和密度等因素 ,将直接影响到材料的力 应力才能使其发生塑性变形.
学性能 ,尤其是材料的硬度[ 1 ,2 ] ,异质材料多层膜的 TiN/ Si N 纳米复合薄膜的超硬现象非常具有
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