非晶La2O3薄膜阻变存储性能的研究.pdfVIP

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第36卷第4期 稀 有 金 属 2012年7月 CHINESE RARE VoL36 NA4 JOURNALOF METALS JlIL2012 非晶La203薄膜的阻变存储性能研究 赵鸿滨,屠海令。,杜 军,张心强 (北京有色金属研究总院先进电子材料研究所,北京100088) x106 B的读电压,高 电阻转变特性。Ⅳh203/Pt器件单元表现出了稳定的双极性电阻转变,其高低阻态比大于两个数量级。经过大于1.8 低阻态的电阻值没有明显的变化,表现出了良好的数据保持能力。通过研究高低阻态的电流电压关系、电阻值与器件面积的关系,揭示了 导电细丝的形成和破灭机制是导致ⅣL且203/gt器件发生电阻转变现象的主要原因。 关键词:氧化镧;电阻转变;非易失性;脉冲激光沉积 0258—7076.2012.04.012 doi:10.3969/j.j矗8IL 中圈分类号:TN386.1文献标识码:A 文章编号:0258—707612012)一04—0574一04 onResistive Behaviorsin Filmsfor Switching Amorphous Investigation La203 StorageApplication Zhao Hongbin,TuHailing‘,DuJun,ZhangXinqiang Research (Aamnc蒯ElectronicMazerial塔Institute,GeneralInstituteforNon—Ferrous舭,Beijing100088,C舫m) resistive inthe lilms substmtes laser Abstract:Theswitching dep∞ited帆Pt/Ti/Si02/$iby propertiesamorphous【^203 pulsed were behaviomof d州c伪welreobtained.Theceilsexhibited depositioninvmir弘ted.Steadybipolarswitching Pt/L丑203/Pt memory x obvious of resistanceratioover1 nO 1.8×106 data hig壬l 102,and degradation妇darations,indicating学Dodn酏endon.Bystudying the betweencurrentand atlowresistance resistance resietancevaluesofPt/ relationship voltage 8诅te(LRS)andhigh state(HITS),the deviceatHRSandLgSfordifferentelectrodecouldbeconcludedthatthe and ofconductiveilia- I^0,/Pt

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