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第22卷第6期 无机材料学报 V01．22，No．6
Journal Materials
2007年11月 ofInorganic Nov．，2007
文章编号：1000—324X(2007)06—1206—05
反应溅射法制备铝掺杂氧化锆薄膜及其热稳定性的研究
马春雨1，李智2，张庆瑜1
(1．大连理工大学三束材料改性国家重点实验室，大连116023；2．大连大学机械I程学院，大
连116622)
摘要t采用反应射频磁控溅射在Si(100)基片上制备丁不|可微结构的铝掺杂氧化锆薄膜．利用高分辨透射电
子显微镜、x射线衍射仪和原子力显微镜研究了退火温度对铝掺杂氧化锆薄膜热学稳定性、界面稳定性和表
面粗糙度的影响，探讨了铝掺杂氧化锆薄膜的，一y特性与薄膜的微观状态之间的关系．研究结果显示·在铝掺
杂氧化锆薄膜中掺入不同量的Al对薄膜的微结构有较大影响，随着薄膜中Al／Zr原子含量比的增大，薄膜微
r’AI)02(AI／Zr=4／5)的
改善．
关 键 词t薄膜物理学；铝掺杂氧化锫薄膜；磁控溅射；热稳定性
中圉分类号：0484文献标识码：A
Thermal of Films ReactiveRF
StabilityA1一dopedZr02 Preparedby
MagnetronSputtering
MA
Chun—Yul，LIZhi2，ZHANGQing-Yul
ofMaterialsModification andElectron of
State Beam，Dalian
(1 KeyLaboratory byLaser，Ion University
ofMechanical
Technology，Dalian116024，China；2Department Engineering，DalianUniversity,Dalian116622，
Chinal
filmswithdifferentmicrostructureswere on
Abstract：A1一dopedZr02 deposited
reactiveRF as inan
byusing ulagnetron withmetallicZrandAl targetsargon-
sputteringprocess
were
films characterizedwith transmissionelectron
oxygenatmosphere．The high-resolution microscope
atomicforce ofthe
variety
(HRTEM)，X-raydiffraction(XRD)，andmicro
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