人脸识别中基于均匀设计SVM超参数调节方法.pdfVIP

光 电 子 ·激 光 第 20 卷 第 10 期 　2009 年 10 月 　　　 　　 Vol . 20 No . 10 　Oct . 2009 Journal of Optoelectronics ·Laser 　　　　 　　　 人脸识别中基于均匀设计的SVM 超参数调节方法 ① 李伟红 , 刘丽娟 , 龚卫国, 辜小花 (重庆大学光电技术及系统教育部重点实验室 ,重庆 400030) ( ) 摘要 :为了有效地解决超高维、多类别人脸识别中支持向量机 SVM ,support vector machine 超参数调节计算复 ( ) 杂性问题 ,提出一种基于均匀设计 UD ,uniform design 的 SVM 超参数调节的人脸识别方法。用 UD 代替传统 ( ) ( ) 的网格 grid 和梯度下降 gradient descent 方法挑选充分均衡分散在整个试验范围内且能得到满意实验结果的 ( ) 特征点,通过最小化 k 折交叉验证误差界或留一法 LOO ,leaveoneout 误差界获取 SVM 最佳超参数。在 UCI ( ) ( ) 模拟数据集 Waveform 及人脸图像库 Yale ,PIE 上进行了实验 ,结果表明,本文方法与传统的 SVM 超参数调 节方法相比,能大大降低超参数调节的时间且能在一定程度上提高人脸分类识别率 ,使 SVM 超参数调节方法 在解决高维人脸真实数据问题时具有一定的实用价值。 ( ) ( ) ( ) 关键词 :支持向量机 SVM 超参数调节; 均匀设计 UD ; 人脸识别; k折交叉验证误差界; 留—法 LOO 误差界 ( ) 中图分类号: TP391. 4 　　文献标识码 :A 　　文章编号 2009 Uniform design based on SVM hyperparameters tuning for face recognition L I Weihong , L IU Lij uan , GON G Weiguo , GU Xiaohua ( Key Lab of Optoele