凝聚态物理论文：VO_2薄膜 热氧化 磁控溅射 相变温度 热致变色 氧化钒薄膜.docVIP

凝聚态物理论文：热氧化法制备二氧化钒薄膜及其相变性能研究 【中文摘要】本文以VO2薄膜为研究对象,采用磁控溅射法在普通玻璃、石英玻璃和Si02/Si(100)基片上沉积金属V膜,然后分别在空气及氧气气氛中用热氧化法探索制备具有相变性能的VO2薄膜的条件。用x-射线衍射仪(XRD)、原子力显微镜(AFM)、傅里叶变换红外光谱仪(FT-IR)、紫外-可见(UV-Vis)分光光度计、X-射线光电子能谱仪(XPS)和自组装电阻—温度测试装置等,分析氧化温度和不同基片对薄膜的微观结构、光学性能、电学性能、相变温度及其组分的影响。结果表明：1.以普通玻璃为基片,沉积膜厚为300nm金属V膜,将其在空气中进行热氧化。在热氧化温度分别为400℃、450℃时,进行热氧化1h,得到具有相变性能的VO2薄膜。其中热氧化温度400℃获得的VO2薄膜,相变温度Tc约为50℃,热滞宽度ATs约为10℃,测试温度超过60℃时近红外光学透过率接近O。2.以普通玻璃为基片,沉积不同厚度的金属V膜,将其在氧气气氛中进行热氧化。发现当金属V薄膜厚度较厚,热氧化形成具有相变性能的VO2薄膜时,热氧化温度范围较宽,且突变性能相对较好。3.在石英玻璃和SiO2/Si(100)基片上,在金属V膜厚度... 【英文摘要】In this paper, VO2 thin films were taken as the study objects and fabricated by thermal oxidation in air or oxygen from the metallic V films which were deposited on the normal glass, quartz substrate and SiO2/Si(100) substrate by magnetron sputtering. The effects of thermal oxidation temperature on the microstructure, optical transmittance, phase transition temperature and composition of the VO2 thin films were investigated by XRD, AFM, FT-IR, XPS (X-ray photoelectron spectroscopy) and Ultraviolet-visible s... 【关键词】VO_2薄膜 热氧化 磁控溅射 相变温度 热致变色 氧化钒薄膜 【英文关键词】VO_2 films thermal oxidation magnetron sputtering phase transition temperature thermochromism vanadium oxide films 【目录】热氧化法制备二氧化钒薄膜及其相变性能研究 摘要 4-5 Abstract 5 目录 6-8 第一章 绪论 8-19 1.1 引言 8 1.2 VO_2的结构和性质 8-12 1.2.1 VO_2的晶体结构 8-9 1.2.2 VO_2的能带结构 9-10 1.2.3 光学性质 10-12 1.2.4 电学性质 12 1.3 VO_2薄膜的应用 12-14 1.3.1 智能窗 13 1.3.2 光电开关 13-14 1.3.3 光存储 14 1.3.4 红外探测器 14 1.4 VO_2薄膜的制备方法 14-16 1.4.1 蒸发法 15 1.4.2 溅射法 15 1.4.3 脉冲激光沉积法(PLD) 15-16 1.4.4 化学气相沉积法(CVD) 16 1.4.5 溶胶-凝胶法 16 1.5 研究进展 16-18 1.6 本论文主要的研究内容 18-19 第二章 实验设备、研究方法及检测仪器 19-29 2.1 实验设备 19-20 2.2 实验材料和试剂 20 2.3 研究方法和流程 20-22 2.4 磁控溅射技术简介 22-24 2.4.1 磁控溅射原理概述 22-23 2.4.2 磁控溅射设备 23-24 2.5 热氧化法生长薄膜 24 2.6 基片的清洗 24-25 2.7 检测仪器 25-29 2.7.1 台阶仪 25 2.7.2 X-射线衍射仪 25 2.7.3 原子力显微镜 25 2.7.4 紫外-可见分光光度计 25 2.7.5 傅立叶红外光谱仪 25-26 2.7.6 X-射线光电子能谱仪 26-28 2.7.7 自组装电阻—温度测试设备 28-29 第三章 空气中热氧化制备VO_2薄膜 29-38 3.1 VO_2薄膜样品的制备 29-30 3.1.1 金属V膜的制备 29 3.1.2 热氧化生长VO_